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第 卷 第 期 延边大学学报 自然科学版
44 1 Vol.44No.1
年 月 ( )
2018 3 JournalofYanbianUniversit NaturalScience Mar.2018
y
文章编号: ( )
1004-4353201801-0022-05
反应磁控共溅射制备 掺杂的
Ti
CuN薄膜的特性研究
3
*
, , ,
杨功胜 郭智文 顾广瑞 吴宝嘉
( , )
延边大学 理学院 吉林 延吉 133002
: , , ( )
摘要 为了研究钛掺杂对 薄膜特性的影响 利用射频和直流反应共溅射方法 在硅 和 玻璃衬
CuN 100 ITO
3
, ( ) ( ) ,
底上 成功制备了不同 掺杂量的 薄膜 薄膜 通过 射线衍射 发现 薄膜
Ti CuN TiCuN . X XRD TiCuN
3 - 3 - 3
, ,
的结晶度均低于未掺杂的 薄膜 但是随着 掺杂量的增加 结晶度增强 薄膜的晶格常数随
CuN Ti .TiCuN
3 - 3
, ( ) ,
着 掺杂量的增加先增后减 但均接近于 的理论值 扫描电子显微镜 图片显示 随着 掺杂量
Ti CuN . SEM Ti
3
, , ,
的增加 薄膜表面变得粗糙 晶粒大小变得均匀 薄膜的微观硬度在 掺杂量为
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