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半导体生产与洁度
格林保尔半导体生产洁净度 电池制造部 半导体特性决定其制造过程必须有洁净度要求 杂质对半导体的特性有着改变或破坏其性能的作用,所 以在半导体器件生产过程中对什么都必须严格控制,杂 质有各种各样的,如金属离子会破坏半导体器件的导电 性能,灰尘粒子破坏半导体器件的表面结构等。 一、生产环境洁净 半导体器件生产环境要求很严,要求恒温、恒湿,按单位体积中规定的尺寸灰尘粒子为标准分成洁净度的等级。一般分为10级、100级、1000级、10000级、100000级。 我们车间扩散间是1万级,其它区域是10万级。 洁净度以每立方米(或叫每立方英尺)空气中的最大允许粒子来确定。等级名称为每立方米空气中大于等于0.5微米的最大允许粒子数的常用对数值(以10为底),(英制单位是等级名称为每立方英尺空气中大于等于0.5微米的最大允许粒子数) 检测(颗粒测试仪) 1)浮游粒子洁净度的检测(颗粒测试仪) 采样:任何洁净区的取样点不少于2个,除受洁净区划内的设备限制外,取样点应在整个洁净区均匀分布,每个选定的取样点应至少取样一次。在一个区内总共应最少取样5次,每个取样点取样应多于一次,而不同的取样点取样次可以不同 2)取样量度和取样时间:取样量不少于0.00283立方米(合0.1立方英尺),并且计算所得取样量结果不得四舍五入。取样时间可以用取样量除以取样速率来计算。 本公司总体设施方面的参数 ●扩散间操作区域洁净等级:1万级 ●扩散间后面换源空调区域的洁净等级:10万级 ●其它区域洁净等级:10万级 ●送风量(m3 ):丝网448800;PECVD38000;扩散56000;装片38080;清洗38080 ●换气次数:十万级20次;一万级30次;千级50-60次●静压差:洁净区与非洁净区是10MPA,洁净区与洁净区之间(十万级与一万级之间) 是5MPA。 进入车间的必要条件(我们人员需要遵守的) 一,影响洁净度的主观因素和所占比例: ●纤维:包括纸箱,头发,衣服(占60%) ●粉尘:包括灰尘,鞋底的泥土(占20%) ●工装夹具:粘有灰尘(10%) ●化学品挥发或泄漏:到空气中产生反应或使空气不洁净(占10%) 进入车间的必要条件(我们人员需要遵守的) 二,进出车间的管理规定: ●工作服,工作帽和工作鞋不允许穿到更衣室的外面(包括钢头鞋) ●进入车间前必须穿好工作服,工作帽和工作鞋 ●必须进行风淋20秒,如果风淋无反应,请点风淋按钮(扩散需二次风淋) ●进入车间后戴好口罩 ●头发必须放在帽子里,女孩子长发要盘起来,男孩不允许留长发 ●自己的衣服帽子不要露在工作服的外面 ●进入扩散间必须穿洁净服,并且再次进行二次风淋 影响工艺的因素与规定 三,影响工艺卫生的因素与规定: 总体基本要求: 1,任何人进入生产区域必须穿好工作服,工作鞋,戴好帽子,口罩; 2,工作服,工作鞋,帽子必须每两周清洗一次; 3,徒手不可以接触任何机器设备,硅片或电池片; 4,任何区域不可以将皮肤漏出;传递窗及时关上;区域门保持关闭; 5,所有小推车必须干净整洁,所有地面必须干净整洁; 6,垃圾必须入垃圾筒,并且盖好盖子;粘尘垫脏了要及时撕掉; 7,所有的工艺控制点,生产数据,表单,流程卡必须真实及时准确填写。 清洗制绒区域: 1,保证装片操作台面的清洁; 2,装片时戴好一次性薄膜手套和口罩,保证遮住口鼻; 3,一次性薄膜手套每100片更换一次,若有脏污需提前更换,确保不污染硅片以至于影响制绒效果; 4,保证各个槽的洁净状态,洗好槽; 5,制绒后的硅片及时放入传递窗,不得停留暴露在外面。 扩散区域: 1,进入扩散间必须吹风淋; 2,严禁任何金属物质接触石英制品; 3,正常生产过程中石英舟的搬运必须使用舟叉; 4,后面的空调必须一直开着,不允许关掉。 刻蚀区域: 1,只允许用吸笔插片,不允许用手插片; 2,保证插片台洁净; 3,各个槽的清洁状态; 5,去PSG后的硅片及时放入传递窗,不得停留暴露在
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