测量三阶光学非线性折射的4f相位相干成像技术研究光学专业论文.docxVIP

测量三阶光学1p线十牛折射的4 测量三阶光学1p线十牛折射的4 f棚位相干成像技术研究 Abstract refractive index of C7H8 and verified the reliability of the improved 4f coherent imaging system． Keyword：4f coherent imaging technique；diaphragm；third—order nonlinear refractive index Written by Wang Yu Supervised by Song Yinglin 苏州大学学位论文独创性声明及使用授权声明学位论文独创性声明 苏州大学学位论文独创性声明及使用授权声明 学位论文独创性声明 本人郑重声明：所提交的学位论文是本人在导师的指导下，独立进行 研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外，本论文不含其 他个人或集体已经发表或撰写过的研究成果，也不含为获得苏州大学或 其它教育机构的学位证书而使用过的材料。对本文的研究做出重要贡献 的个人和集体，均已在文中以明确方式标明。本人承担本声明的法律责 任。 研究生签名： 差墟 日期： 硼9·S．|≯ 学位论文使用授权声明 苏州大学、中国科学技术信息研究所、国家图书馆、清华大学论文 合作部、中国社科院文献信息情报中心有权保留本人所送交学位论文的 复印件和电子文档，可以采用影印、缩印或其他复制手段保存论文a本 人电子文档的内容和纸质论文的内容相一致。除在保存期内的保密论文 外，允许论文被查阅和借阅，可以公布(包括刊登)论文的全部或部分 内容。论文的公布(包括刊登)授权苏州大学学位办办理。 研究生签名： 乏埕 一～日期： 哥酗霉。塞t|≥‘ 导师签名： 测量三阶光学非线性折射的4 测量三阶光学非线性折射的4 f相位相干成像技术研究 第一章绪论 第一章绪论 自从激光问世以来，非线性光学迅速地发展形成为一门新兴的学科，是现 代科学前沿最为活跃的学科领域之一。光学逻辑、光学记忆、光三极管、光开 关和相位复共轭等功能的实现主要依赖于非线性光学材料的研究进展。光学非线性 测量技术是研究非线性光子学材料的关键技术之一。从上世纪六十年代至今，人 们已经先后提出十多种测量非线性折射率的方法，这些测量方法为研究材料 的光学非线性性质提供了强有力的手段，同时也推动了非线性光学不断的发展。 1．1非线性光学极化率的简单描述 非线性光学极化率的理论模型的建立为非线性光学的发展和应用建立了坚实 的理论基础。在非线性光学理论中，通常采用光在介质中引起的极化响应过程来描 述光与介质的相互作用、光在介质中的传播特性。对于线性光学现象，光在介质中 引起的极化强度P与光电场E的关系为： p=soZ·E (1．1) 式中，表征介质对光极化特性的极化率张量Z与光电场E无关的常量。对于非线性光 学现象，光在介质中引起的极化强度P与光电场E的关系为： P：,coz(E)·E (1．2) 式中，表征介质对光极化特性的极化率张量z与光电场E有关。 对于非线性光学过程，极化强度与入射光电场的关系可以采用下面的级数形 式表示： P=60{Z¨’·E+Z‘2’：髓+z㈣iEEE+ } =尸(1)+P(2)+P(3)+ (1．3) 测量三阶光学非线性折射的4 测量三阶光学非线性折射的4 f相位相干成像技术研究 第一章绪论 式中，Z(1)是一阶极化率或线性极化率，它是二阶张量；Z(2)是二阶极化率，它是三 阶张量；z(3)是三阶极化率，它是四阶张量。 1．2光克尔效应 光场引起介质非线性折射率变化的现象称为光克尔效应。光克尔效应中介质折 射率变化的大小与该处光强的大小成正比。 介质的折射率是指材料对应频率为CO的入射光场的折射率可以写成下式 n=‰+，22I (1．4) 这里n。是通常的折射率(线性或低光强折射率)，n：称为非线性折射率系数。它是表 征非线性折射强弱的光学常数，与三阶极化率的关系为 铲三 (”) 这里刀2的单位为mZ／W，)C‘3’为MKS单位，采用的光强与电场强度之间的关系为 ，={册。￡。E (1．6) 在克尔介质中由于克尔效应可以导致一个典型的非线性光学现象即自聚焦，如 图1．1所示。高斯光束输入到玎，0的非线性介质。由于光束的横向是非均匀分布 的，此时介质类似于一个正透镜，引起光线在其中传输过程中发生会聚现象，光斑 变得越来越小，光强增大，结果可能导致损伤介质。 吃o 图1．1光束的自聚焦 2 测量三阶光学非线性折射的4 测量三阶光学非线性折射的4 f相位相干成像技术研究 第一章绪论 1．3光克尔效应的主要起源 光克尔效应引起的光致折射率变化的物理机制很多，归纳起来有以下几个方 面：原子或分子的电子云畸变、分子偶极矩