多孔sicoh低介电常数材料薄膜的制备与性能表征材料学专业论文.docxVIP

复 复 旦 大学 硕 卜学 位 论文 多孔 S IC O H 低 介 电常 数 材 料 薄 膜 的 制备 与 性 能 表 征 时 时 ，薄膜 力 学 强 度 分 别 达 到 百r~ 7.4G P a ，挤 1.O G P a 。F TIR 、X P S 分 析 表 明 ， 紫 外 辐 照 6 小 时 后 ，刚性 C 一C 键 含 量 增 多 ，从 而 改 变 了薄 膜 中 si一O 一Si 骨 架 的 交 联 密 度 和 刚 性 。然 而 ，薄 膜 介 电性 能 未 受 到 明显 影 响 ，紫 外 辐 照 6 小 时 后 ，k 值 仅 从 2 .0 增 至 2.2 。 作 为一 种 低 介 电常 数 材 料 的研 究 ，本 文 开 发 的 多孔 siC O H 材 料 薄 膜 达 到 了 超 低 k 值 (一2.0) 的 目的 ，在 经 受 35 0一500 ℃ 的 高 温 处 理 时 ，薄 膜 始 终 能 够 维 持 良好 的热 稳 定 性 和 介 电稳 定 性 。并 且 ，经 紫 外 光 辐 照 处 理 后 ，力 学 性 能 也 得 到 大 幅 度 改 善 ， 因此 ，有 望 作 为 超 低 介 电常 数 材 料 在 互 连 介 质 领 域 推 广 应 用 。 关 键 词 : SIC O H 薄 膜 ，低 介 电常 数 ，旋 涂 技 术 ，热 退 火 ，紫 外辐 照 ，力 学 性 能 中 图分类 号 : T B34 ，T N 40 5 复 旦 复 旦 大 学 硕 七学 位 论 文 多孔 S ICO H 低 介 电常 数材 料 薄 膜 的 制 备 与 性 能 表 征 A b s tr a C t A s th e f ea tu r e siz e d e e re a se s in u ltra la r ge 一se a le in te g ra te d c ire u its，t he P a ra s itic resistan ce an d eaPaeitan ee eo u P lin g (R C d elay ) b eco m e s th e d eterm in in g faetor for th e s ig n a l P ro P a g a tio n . In o rd e r to d ee re a se th e R C d e la y ，u ltra lo w 一d ie le e trie 一e o n st an t (low 一k) m aterials (k 2 .3) hav e b een in vestigated w idely in sem ieo ndu etor an d m a te ria l in d u strie s re e e n tly . B e sid e s Io w k v a lu e ，th e Io w 一k d ie le e t rie s a lso d e m a n d g o o d m e eh an iea l stren gth ，th erm al stab ility an d lo w leak a g e e u rre n t. In th is P a P e r ，f o r th e sa k e o f lo w e r k v a lu e ，th e P o ro u s S IC O H f ilm w a s se le e te d a s th e e a n d id a te o f lo w 一k m a te ria ls d u e to lo w 一k v a lu e o f o rg a n ie m a te ria ls a n d g o o d m e e h a n ic a l stre n gth a n d th e rm a l stab ility o f in o rgan ie rnate ria ls . W e a lso sy ste m a tie a lly a n d e o m P a ra tiv e ly stu d ie d th e P e rf or m a n c e s o f th is f ilm ， su e