TFT-LCD含铬蚀刻废液化学还原沈淀污泥沈降行为之探讨.DOC

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2019-08-02 发布于天津
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含刻液化原沈污泥沈降行之探研究生指教授桂君庭摘要本研究主要探刻液之化原沈污泥不易沈降之成因液化原沈後其沈降行全程密沈且不易沈降及污泥量等象液中除了子外亦含有大量子因此自行配了工刻液中度相近之溶液行化原沈所配之度相於原刻液度度其中污泥以典型良好的沈型式沈而溶液刻液相同全程皆密沈降沈效率差研究液在化原沈理同步原沈生大量污泥致沈效率差但不影液中之化原沈去除另外在化原沈液也受硝酸而生面影液中的子度沈型式及沈速度相研究示影刻液原沈的因素主要是度效另外配了之溶液行原沈加以小沈後其之溶液置小之前第型沈之後第型

TFT-LCD含鉻蝕刻廢液化學還原沈澱污泥沈降行為之探討 The settling behavior of chemical reduction and precipitation sludge from Cr(Ⅵ)-containing TFT-LCD etching wastewater 研究生：劉廣澤 Guang-Tze Liou 指導教授：葉桂君 Kuei-Jyum Yeh 陳庭堅 Ting-Chien Chen 【摘要】本研究主要探討蝕刻廢液之化學還原沈澱污泥不易沈降之成因。實驗發現廢液經化學還原沈澱後，其沈降行為全程為壓密沈澱，且不易沈降及污泥過量等現