磁性薄膜超薄膜及图形薄膜的磁性研究生物电子学专业论文.docxVIP

博士论文：磁性薄膜、超薄膜及图形薄膜的磁性研究摘要 博士论文：磁性薄膜、超薄膜及图形薄膜的磁性研究 摘要 随着在磁性随机存储器和超高密度存储技术中应用的不断拓展，近二十年来，磁性薄膜 和超薄膜的结构、基本磁性、层间耦合、界面状况及其相关效应一直是人们研究的热点和难 点之一。尤其是光刻成微米、亚微米尺寸的磁性单元阵列的图形薄膜，由于和应用的尺度直 接相关，且具有不寻常的磁特性，晟近吸引了越来越多的兴趣。本论文以铁磁共振为主要研 究手段。辅助以磁性和磁光测量，对外延于GaAs及InAs上的不同厚度的单晶Fe超薄膜、 不同厚度的NiFe多晶薄膜和电子束光刻的多晶NiFe和NiFeCo单层和三明精结构的微米及 亚微米矩形单元阵列图形薄膜的磁性，特别是磁各向异性进行了较为系统的研究。土要结屎 如下： 一、半导体衬底上外延生长Fe单晶超薄膜的磁性的研究 1．对衬底为GaAs外延生长的4．1-33原子层厚度(monolayer,简称ML)的Fe单晶超薄膜 进行了铁磁共振(FMR)和磁光研究，建立了理论模型对铁磁共振实验结果进行了模拟， 重现了不同厚度的超薄膜，从纳米团簇到两相共存的过度阶段直至连续薄膜结构与磁性的 变化，特别是磁各向异性从单轴各向异性向立方各向异性转变的演化过程。并计算出了薄 膜各生长阶段的有效磁化强度，回旋磁比及各向异性常数。主要有如下发现： (1)膜厚在4．1ML时，未形成连续薄膜，而是超顺磁性的团簇，具有很大的单轴的垂直 各向异性和平面单轴各向异性．色散关系曲线是对称的正弦类曲线。 (2)当膜厚增加到5．2 ML时．薄膜的FMR显示出双共振峰，其中之一与厚度为4．IML 的薄膜共振场一致，说明此时是连续薄膜与超顺磁团簇共存。这是首次利用铁磁共振 获得的结果。当厚度大于8．4 ML后，薄膜形成连续膜，乖亩希f平面的单轴备向异性 随膜厚的增加而减小，并出现了四度对称的成份。色散关系曲线在8．4．12．7ML的厚 度范周内产生不对称。经过拟合，发现原因除了外磁场和磁化强度的取向差之外主要 是因为出现了高阶各向异性及立方对称各向异性。 (3)薄膜中存在的面内单轴各向异性可能来源于磁弹性相互作用，这是由于薄膜在生陡过 程中，与衬底的晶格错配而产生的应力各向异性导致的。 14)朗道因子g约为2．08，这与块材铁单晶的g因子接近。 2，对于外延生长在InAs衬底上、厚度为g-25ML的超薄Fe单晶膜进行了铁磁共振和磁光 研究，获得以下几点结果： (I) 膜厚在8~25ML之间时，薄膜面内的磁晶各向异性为四度对称各向异性，垂直单轴 各向异性比同厚度的Fe／GaAs系统小许多，而立方各向异性则比Fe／GaAs系统更接 近bcc结构的Fe。与Fe／GaAs系统的平面单轴各向异性相比，Fe／InAs系统的平面 单轴各向异性消失得较快，这可能是Fe／InAs系统各向异性的应力弛豫比Fe／GaAs 系统快所致。 (2) 色散关系曲线同样出现不对称现象．但原因与Fe／GaAs系统不同。土要是由于磁场 和磁化强度的取向差较大所致。 (3) 朗道因子g约为2．08，这与以GaAs为衬底Fe单晶超薄膜的g因子接近。 (4) 首次用FMR定量地验证了前人原位测量的定性结果，井对FMR共振场角度依赖性 的非对称性给出两种解释。 二、多晶单层薄膜及图形化薄膜磁性的研究 1．当多晶单层坡莫合金薄膜的厚度小于4nm时，薄膜的磁性发生异常，g因子增火、FMR 博士论文：磁性薄膜、超薄膜及匪形薄膜的磁性研究线宽出现峰值以及磁化强度锐减等都说明在薄膜的界面可能存在着低磁性的合金混合 博士论文：磁性薄膜、超薄膜及匪形薄膜的磁性研究 线宽出现峰值以及磁化强度锐减等都说明在薄膜的界面可能存在着低磁性的合金混合 层NiFe—Za或分层引起的不均匀性。并利用FMR线宽得到磁化进动的阻尼系数，其随 厚度变化的趋势与以前研究开关时间随厚度的变化趋势一致。这是非常有意义的发现。 2，NIFe单层膜中存在反走向磁滞回线，这是在薄膜边界形成合金混合层的一个可能的直接 证据，我们用反铁磁模型模拟了磁滞回线，与实验中观测到的磁滞回线有较好的符合。 3．对NiFe矩形单元阵列图形薄膜进行的FMR研究发现，在矩形单元阵列图形薄膜中确实 存在平面内形状各向异性，在连续薄膜中。由于其横向尺寸远大于厚度，平面内形状各 向异性很小，可略去；但在微米及亚微米单元中，出现了平面形状各向异性，其易磁化 方向沿薄膜的矩形单元长边方向(正方单元为正方边)，难磁化方向沿薄膜的矩形单元 的短边方向。 4．对于NiFeCo／Cu／NiFeCo三层矩形单元阵列图形膜，当矩形单元的矩形比一定时，随着 单元尺寸的减小．其共振场随磁场在面内的取向变化的振幅增大，这是由于平面形状备 向异性增大的缘故，与单层图形薄膜的情况有所不同