等离子体刻蚀工艺模型研究进展.pdf

第 卷第 期 微 电 子 学 , 45 1 Vol.45 No.1 年 月 2015 2 Microelectronics Feb.2015 췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍 等离子体刻蚀工艺模型研究进展 , , , 于 骁 周再发 李伟华 黄庆安 ( , ) 东南大学 MEMS教育部重点实验室 南京 210096 : , 。 摘 要 综述了等离子体刻蚀模型的研究进展 包括粒子方法模型和动力学模型的现状与进展 , 粒子方法模型主要介绍蒙特卡洛模型和结合蒙特卡洛模型的混合模型 动力学模型主要介绍反应 、 。 , 位点模型 分子动力学模型和混合层动力学模型 在每种模型中 讨论了该模型的优缺点及应用范 。 , , , 围 在此基础上 总结了过去刻蚀模型的发展历程 展望了等离子刻蚀模型的发展前景 对进行等 离子刻蚀的建模分析具有参考意义。 : ; ; ; ; 关键字 等离子体刻蚀 刻蚀模型 粒子方法 动力学方法 工艺模拟 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) TN405 A 1004-3365201501-0094-06 ReviewofModelin inPlasmaEtchin Process g g , , , YUXiao ZHOUZaifa LIWeihua HUANGQin’an g ( , , , ) KeLaborator o MEMSo EducationMinistr SoutheastUniversit Nanin 210096 P.R.China y y f f y y j g Abstract: , Latestdevelomentofmodelin in lasmaetchin wassummarized includin the articlemodeland p g p g g p