超分辨近场结构中二元共晶合金掩膜的工作机制.PDF

第 34 卷 　第 4 期 中　 国 　激 　光 Vol . 34 , No . 4 　 2007 年 4 月 C H IN ESE J OU RN AL O F L A SER S Ap ril , 2007 　 　　文章编号 :(2007) 超分辨近场结构中二元共晶合金掩膜 的工作机制 瞿青玲 , 王 　阳 , 干福熹 ( 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海 20 1800) ( ) 摘要 　超分辨近场结构 sup erR EN S 技术通过在传统光盘结构中插入掩膜结构而实现近场超分辨 ,是 目前最具实 用化前景的超高密度光存储技术之一 ,其中掩膜层的近场光学特性是决定其光存储性能的关键 。利用三维时域有 ( ) 限差分法 3DFD TD 对合金掩膜的近场光强分布进行了数值仿真和分析 ,提出二元共晶合金薄膜在激光作用下形 ( ) 成的规则微结构可能是以其作为掩膜层的超分辨近场结构光盘产生较高信噪比 SN R 的原因。 关键词 　光存储 ;超分辨近场结构 ;三维时域有限差分法 ;二元共晶合金 ;信噪比 中图分类号 　O 484 . 4 + 1 　　　文献标识码 　A Working Mechanism of the Binary Eutectic Alloy Mask Layer in SuperResol ution NearFiel d Structure QU Qingling , WAN G Yang , GAN Fuxi ( ) S hang hai I ns t i t ute of Op tics an d F i ne M echanics , The Chi nese A ca demy of S ciences , S hang hai 20 1800 , Chi na Abstract 　Sup er resolution nearfield st ruct ure ( sup erR EN S) i s one of t he mo st p romi sing candidat es for t he ult rahighden sit y op tical storage , and nearfield op tical p rop erties of t he mask layer in sup erR EN S op tical di sk are crucial for it s op tical storage p erformance . The nearfield di st ribution t hrough t he eut ectic alloy ma sk layer ha s been st udied by u sing t hr