实验报告-合肥科晶.PDFVIP

实验报告 实验部门：市场部 实验员：王亚东、刘丛辉、王超、谢新宇 2018.09.04-22 实验名称：磁控溅射镀Mg 膜 实验目的：利用射频磁控溅射方法制备高纯度Mg 膜 实验设备：VTC-16-SM、VTC-3RF 磁控溅射仪、分子泵、氩气、Mg 靶、射频电源、冷风机 实验结论： （1）实现预期结果，在Cu 基片上镀Mg 膜； （2）利用VTC-16-SM 磁控溅射，当溅射2h 时，靶头区域温度过高，导致粘贴在阴极 罩表面的3M 胶融化，易污染样品； （3）靶基距影响样品表面Mg 的百分比含量。 实验分组： 组别 仪器 溅射气压 溅射功率 溅射时间 基台温度 靶基距 第一组 VTC-16-SM 11.5mTorr 21W 2h 未加热 45mm 第三组 VTC-3RF 1.8Pa 80W 1h 300℃ 70mm 第四组 VTC-3RF 1.8Pa 80W 1h 300℃