射频磁控溅射法制备的-7掺杂B薄膜的结构及其发光性质.PDFVIP

第 卷第 期 发 光 学 报 年 月 文章编号 射频磁控溅射法制备的掺杂 薄膜的结构及其发光性质 高振杰 杨元政 谢致薇 王彦利 广东工业大学 材料与能源学院 广东 广州 摘要 用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了 薄膜通过射线衍射仪 扫描电子显微镜和荧光 光谱仪测试了薄膜结构 形貌以及发光性能重点考察了溅射功率和退火工艺对其组织结构和发光性能的 影响 结果表明样品均呈现的六角纤锌矿结构增大溅射功率有利于形成的轴择优取向增大 溅射功率以及高温退火会使晶粒尺寸增大观察到稀土元素内