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薄膜厚度测量的国内外状态和趋势 薄膜厚度测量的国内外状态和趋势 2011年08月03日 　　 薄膜厚度测量的国内外状态和趋势 　　周文豪 李辉 　　1薄膜厚度测量概述 　　1.1薄膜测量概述 　　凡其厚度与入射光波长相比拟的并能引起干涉现象(相干光程小于相干长度)的膜层为薄膜，其厚度远大于入射光波波长的膜层称之为厚膜。如今，微电子薄膜，光学薄膜，抗氧化薄膜，巨磁电阻薄膜，高温超导薄膜等在工业生产和人类生活中的不断应用，在工业生产的薄膜，其厚度是一个非常重要的参数，直接关系到该薄膜材料能否正常工作。如大规模集成电路的生产工艺中的各种薄膜，由于电路集成程度的不断提高，薄膜厚度的任何微小变化，对集成电路的性能都会产生直接的影响。除此之外，薄膜材料的力学性能，透光性能，磁性能，热导率，表面结构等都与厚度有着密切的联系。 　　通常情况下，薄膜的厚度指的是基片表面和薄膜表面的距离，而实际上，薄膜的表面是不平整，不连续的，且薄膜内部存在着针孔、微裂纹、纤维丝、杂质、晶格缺陷和表面吸附分子等。因此薄膜的厚度大至可以分成三类：形状厚度，质量厚度，物性厚度。形状厚度指的是基片表面和薄膜表面的距离；质量厚度指的是薄膜的质量除以薄膜的面积得的厚度，也可以是单位面积所具有的质量（g/cm2）；物性厚度指的是根据薄膜材料的物理性质的测量，通过一定的对应关系计算而得到的厚度。 　　随着科技的进步和