NiTi多层膜界面状态优化分析-表面技术.PDFVIP

第43卷摇 第5期 摇 摇 摇 表面技术 摇 摇 2014年10月 SURFACE TECHNOLOGY ·47 · 試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試 Ni/ Ti 多层膜界面状态优化分析 1 2 1 1 严彪杰 ,张向东 ,白彬 ,杨飞龙 (1.表面物理与化学国家重点实验室,四川 绵阳621907; 2.中国工程物理研究院,四川 绵阳621900) 摘摇 要: 目的摇 减小Ni/ Ti 多层膜表面粗糙度,提高Ni/ Ti 多层膜对中子束的反射率。 方法摇 采用离子 束辅助沉积设备沉积Ni/ Ti周期性多层膜,通过不同抛光时间和不同离子能量轰击对多层膜界面进行清 洗抛光;采用反应溅射法,在镀Ti层时使用氢气和氩气混合气为工作气体,将H原子掺入Ti层以改变晶 粒结构而影响多层膜界面状态。 结果摇 随着辅助离子源功率的增加,Ni/ Ti 多层膜的表面粗糙度增加;在 合适的离子能量下,随着抛光时间的不断增加,Ni/ Ti 多层膜的表面粗糙度逐渐减小。 Ti 层中掺 H 的 Ni/ Ti多层膜比未掺H的多层膜表面粗糙度小,界面更加清晰。 结论摇 低能量的离子轰击条件下,适当的 抛光时间能对多层膜实现较好的抛光效果。 Ti层中掺入H原子,抑制了Ni原子与Ti原子的扩散,减小 了Ti膜层晶粒大小,从而抑制了表面粗糙度的增加。 关键词:中子超镜;Ni/ Ti 多层膜;粗糙度; 离子抛光;反应溅射 中图分类号:TG174.442摇 摇 摇 文献标识码:A摇 摇 摇 文章编号:1001鄄3660(2014)05鄄0047鄄04 Optimizing Analysis of Interface State of the Ni/ Ti Multilayer Films 1 2 1 1 YAN Biao鄄jie ,ZHANGXiang鄄dong ,BAI Bin ,YANGFei鄄long (1.Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory,Mianyang621907,China; 2.China Academy of Engineering Physics,Mianyang621900,China) ABSTRACT:ObjectiveToreducetheinterfaceroughnessoftheNi/ Timultilayerfilm,andimprovetheneutronreflectivityofthe multilayer. Methods Aseriesof Ni/ Tiperiodicmultilayerswerefabricatedbytheionbeamassisteddepositiondevice,andtheNi/ Ti multilayerswere rinsed and polished though bombarding by ion beam with different ion energy and polishing time. The Ni/ Ti multilayerswas deposited by the reactive sputtering,the argon gas mixed with hydrogen was used as the working gas when the Ti la