氩氧比对磁控溅射梯度犃犣犗薄膜光电性能的影响-压电与声光.PDF

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第 卷第 期 压 电 与 声 光 39 4 Vol.39No.4         年 月 2017 8 PIEZOELECTRICS&ACOUSTOOPTICS Au.2017 g 文章编号: ( ) 10042474201704056504    氩氧比对磁控溅射梯度犃犣犗薄膜光电性能的影响 , 12 1 1 2 赵 斌 ,唐立丹 ,王 冰 ,冯佳恒     ( 辽宁工业大学 材料科学与工程学院,辽宁 锦州 ; 中国科学院 嘉兴微电子仪器与设备工程中心,浙江 嘉兴 ) 1. 1210002. 314000 摘 要:采用磁控溅射法在单晶硅和石英玻璃衬底上制备梯度铝掺杂的氧化锌( )薄膜。利用 线衍射 AZO X      ( )、霍尔效应测试和紫外可见光分度计等研究了不同氩氧比(体积比)对梯度 薄膜结构和光电性能的影 XRD AZO 响。结果表明,氩氧比可以改善薄膜的结晶质量,且对电学性能的影响较大。随着氩氧比的增加,晶粒尺寸减小, 结晶度稍有下降,薄膜的电阻率却显著降低,当氩氧比为 时,薄膜具有最低的电阻率为 -4 · 。此 1∶0 6.85×10 Ω cm 外,所有的梯度 AZO薄膜在可见光区的透过率均达到 80%。 关键词:梯度铝掺杂的氧化锌( )薄膜;磁控溅射;氩氧比;电阻率;透过率 AZO 中图分类号: 文献标识码: TN304.2 A     犐狀犳犾狌犲狀犮犲狅犳犃狉狋狅犗 犚犪狋犻狅狅狀狋犺犲犘犺狅狋狅犲犾犲犮狋狉犻犮犘犲狉犳狅狉犿犪狀犮犲狅犳 2 犌狉犪犱犻犲狀狋犃犣犗犜犺犻狀犉犻犾犿犘狉犲犪狉犲犱犫 犕犪狀犲狋狉狅狀犛狌狋狋犲狉犻狀 狆 狔 犵 狆 犵 , 12 1 1 2 , , , 犣犎犃犗犅犻狀 犜犃犖犌犔犻犱犪狀 犠犃犖犌犅犻狀 犉犈犖犌犑犻犪犺犲狀 犵 犵 (

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