类富勒烯纳米晶CN薄膜及其场致电子发射特性!-物理学报.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 #’’% ， ， ， 6MA 1 +M 1 W.X4D #’’% （ ） !’’’#7’2#’’%2 ’ 2’))’ 9*9 OSTUV*9 UV+V*9 ##’’% *D@0 1 ODY3 1 UM4 1 类富勒烯纳米晶! 薄膜及其场致电子发射特性! ! ）） ） ） ） ） ） ） ! ! # # # # $ 张 兰 马会中 李会军 杨仕娥 姚 宁 胡欢陵 张兵临 !）（郑州大学工程力学系，郑州 %’’’# ） # ）（郑州大学物理工程学院，郑州 %’’# ） ）（中国科学院安徽光学精密机械研究所，合肥 #’’!） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #’’ !# #’’ ( !) 利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了 薄膜，并利用 射线光电子能谱、射线衍射、扫描电 *+ , , ! 子显微镜和 光谱等测试手段对所制备的 薄膜的微结构和成分进行了分析 研究了其场致电子发射特 -./.0 *+ 1 ! 性 发现薄膜的结构和场发射特性与反应系中的甲烷、氮气及氢气的流量比有关，当甲烷、氢气及氮气流量比为 1 )2 ’2’ 344/ 时，制备的薄膜具有弯曲层状的纳米石墨晶体结构（类富勒烯结构）和很好的场发射特性 场发射阈值电 1 场降低至 当电场为 时，平均电流密度达 # ，发射点密度大于 % ; # !5 !62 / 1 5762 / 8’ 92 4/ ! : !’ 4/ 1 ! !