高透光氧化硅涂层的低温制备及微观结构调整-中科院宁波工研院先进.PDF

第47 卷 第 8 期 表面技术 2018 年8 月 SURFACE TECHNOLOGY ·1 · 高透光氧化硅涂层的低温制备及微观结构调整 1 1 2 1 1 张栋 ，陈仁德 ，智理 ，柯培玲 ，汪爱英 （1.中国科学院宁波材料技术与工程研究所 海洋新材料与应用技术重点实验室， 浙江 宁波 315201；2.宁波中骏森驰汽车零部件股份有限公司，浙江 慈溪 315300） 摘 要： 目的 提供一种在真空装饰领域能够广泛应用的具有防护、功能性的氧化硅涂层制备方法，为具体 应用中涂层工艺参数的选择提供指导。方法 采用 PECVD 技术，通过改变 O2 与 HMDSO 配比，低温制备具 有不同微结构的氧化硅涂层。采用扫描电镜观察涂层的表截面微观形貌，采用 X 射线衍射仪、傅里叶变换 红外光谱仪、X 射线光电子能谱仪、激光共聚焦拉曼光谱仪分析涂层的微结构及成分，采用紫外分光光度计 表征涂层透光性，采用纳米压痕仪表征涂层的力学性能，采用接触角仪表征涂层的表面润湿性。结果 所制 备的氧化硅涂层表面光滑，结构致密。随反应气体中 O 配比的增加，涂层结构由 SiO 逐渐过渡为 SiO ，并 2 2 掺杂有少量非晶碳，其光学透过率增加，力学性能下降，亲水性增加。当碳含量最低时，涂层具有最优异 的透光性及最好的亲水性，在全可见光波段范围内透过率接近 100%，与水接触角为 45.38° ；当碳含量最高 时，涂层具有最优异的力学性能，硬度为 13.5 GPa，H/E 为 0.11。结论 采用 PECVD 方法能够在低温下获 得光学透明、具有一定硬度、表面易清洁的氧化硅涂层，通过气体控制能够对涂层微结构及性能进行调节， 从而适用于不同需求的功能装饰。 关键词：氧化硅涂层；功能装饰；透光性；力学性能 中图分类号：TG174.442 文献标识码：A 文章编号：1001-3660(2018)08-0000-07 DOI ：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.08.000 Low Temperature Preparation and Microstructure Adjustment of High Transmittance Silicon Oxide Coatings 1 1 2 1 1 ZHANG Dong , CHEN Ren-de , ZHI Li , KE Pei-ling , WANG Ai-ying (1.Key Laboratory of Marine Materials and Related Technologies, Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering, Chinese Academy of Sciences, Ningbo 315201, China; 2.Ningbo GENSEN Auto Parts Co., Ltd, Cixi 315300, China) ABSTRACT: The work aims to provide a method for prepa