PECVD工艺培训教材.ppt

问题 原因分析 解决方案 膜面边角 不规则发白 片子弯曲 挑出返工，并通知品质来料 绒面不良 插片时发现及时挑出 手指印 插片时注意工艺卫生 意外沾上化学物，如NaOH 插片时挑出，并及时通知前道工艺人员 边缘不规则 发白、白线 正面刻蚀过多 调整刻蚀参数 HF清洗不干净或水纹 调整酸液浓度及查看吹干效果 边缘规则 发白、白线 原材料边角存在脏污现象 将不合格硅片集中一起流或退库 HF槽液位低 补液或换液 膜面白色圆点 未吹干 调整风刀角度 有药液残留 补液或换液 表面杂质吸附 加强工序内的工艺卫生 漏插 插片时相对应的没有装片 插片注意 彩虹片 插片时造成碎片 规范插片手法 问题 原因分析 解决方案 膜面局部发白 制绒槽风刀堵住导致 更换风刀 边缘色斑印 一清流下的片未吹干 检查酸洗脱水性和风刀吹干效果 石英舟不干净 停用己脏污的石英舟并安排清洗 掉片 员工插片不到位导致 规范插片方法,上机前轻拍下石墨舟 设备进出舟太快 通知设备降低传送速度 镀膜对电性能参数的影响 Isc低 减反效果差或纯化效果差 检测膜厚及折射率是否在规定范围内 Voc低 纯化差 调整流量比,增加纯化时间 硅烷是一种易燃、易爆的特种气体。该气体通常与空气接触会引起燃烧并放出很浓的白色无定型二氧化硅烟雾。它对健康的首要危害是它自燃的火焰会引起严重的热灼伤。如果严重甚至会致命。不要靠近，不要试图在切断气源之前灭火。 硅烷会刺激眼睛，吸入高浓度的硅烷会引起头痛、恶心、头晕并刺激上呼吸道。硅烷会刺激呼吸系统及粘膜。过度吸入硅烷会引起肺炎和肾病。分解产生无定型二氧化硅颗粒会引起皮肤刺激。 紧急救助 立即寻求医疗急救处理！眼睛接触：应立即用水冲洗至少15分钟，水流不要太快，同时翻开眼睑，并立即寻求眼科处理； 吸入：将患者尽快移到空气清新处，如有条件须进行输氧或人工呼吸； 皮肤接触：用大量的水清洗至少15分钟，脱掉已暴露在硅烷中被污染的衣服。如果患者有持续的刺激感或其他进一步的健康影响需立即进行医疗处理。 氨气是一种刺激性、无色、可燃的储存于钢瓶的液化压缩气体。其存储压力为其蒸汽压14psig(70℉)。当它在空气中的浓度超过15%时有立即造成火灾及爆炸的危险，因此进入这样的区域前必须排空。进入浓度超过暴露极限的区域要佩戴自给式呼吸器。大规模泄露时需要全身防护服。暴露在氨气中会对眼睛造成中度到重度的刺激。氨气强烈地刺激鼻子、喉咙和肺。过度暴露会影响中枢神经系统并会造成痉挛和失去知觉。上呼吸道易受伤害并导致气管炎。声带在高浓度下特别容易受到腐蚀，下呼吸道伤害会造成水肿和出血，暴露在5000ppm下5分钟会造成死亡。 紧急救助 眼睛接触：用大量的水冲洗，立即进行医疗处理。 吸入：将人员移到空气清新处，若呼吸困难便输氧，并迅速送医治疗。 皮肤接触：用大量水冲洗，立即脱掉被污染的衣服，并进行药物处理。 谢谢！ 感谢聆听！ THANK YOU FOR WATCHING! 演示结束！ ---韩金杉 PECVD定义 PECVD原理 PECVD的特点 PECVD的镀膜作用 PECVD的纯化作用 影响PECVD镀膜及异常分析 PECVD安全 PECVD ：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 等离子体：气体在一定条件下受到高能激发，发生电离，部分外层电子脱离原子核，形成电子、正离子和中性粒子混合组成的一种形态，这种形态就称为等离子态。 PECVD技术原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。 PECVD方法区别于其它CVD方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子，它们可以提供化学气相沉积过程所需的激活能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程，生成活性很高的各种化学基团，因而显著降低CVD薄膜沉积的温度范围，使得原来需要在高温下才能进行的CVD过程得以在低温实现。 一般说来,采用PECVD 技术制备薄膜材料时，薄膜的生长主要包含以下三个基本过程： （一）在非平衡等离子体中，电子与反应气体发生初级反应，使得反应气体发生分解，形成离子和活性基团的混合物； （二）各种活性基团向薄膜生长表面和管壁扩散输运，同时发生各反应物之间的次级反应； （三）到达生长表面的各种初级反应和次级反应产物被吸附并与表面发生反应，同时伴随有气相分子物的再放出。 （一） 在辉光放电条件下，由于硅烷等离子体中的电子具有几个ev 以上的能量，因此H2和SiH4受电子的碰撞会发生分解，此类反应属于初级反应。若不考虑分解时