阵列电极研究F对铜在5%Na2SO4溶液中腐蚀电化学行为影响.pdfVIP

第21卷第7期 中国有色金属学报 2011年7月 Vbl．2lNO．7 TheChineseJournalofNonferrousMetals Jul．201l 文章编号：1004-0609(2011)07—1614—09 阵列电极研究F一对铜在5％Na2S04溶液中 腐蚀电化学行为的影响 吴红艳，周琼宇，钟庆东，盛敏奇，王毅，林海 (上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室，上海200072) 摘要：采用阵列电极技术、扫描电子显微镜、自腐蚀电位、极化曲线和电化学阻抗等电化学方法研究F-对铜在 5％Na2S04溶液中腐蚀电化学行为的影响。结果表明：F_使铜表面的腐蚀电流密度增大，自腐蚀电位负移，电化 学阻抗降低，铜表面各区域的自腐蚀电位标准方差由21．08增加到28．3l，阻抗标准方差由1．43l增加到2．071。 F_的存在使铜表面的腐蚀产物膜层的形貌及结构发生明显变化，腐蚀产物膜层由均匀致密分布的颗粒状转变为凹 凸不平、疏松的多坑状。说明F一能加剧铜的腐蚀并破坏铜表面腐蚀产物膜层，加剧局部微区腐蚀的发生，铜腐蚀 趋于不均匀。 关键词：阵列电极；铜；r；电化学阻抗谱；腐蚀 中图分类号： TG174 文献标志码：A Effectofroncorrosionelectrochemicalbehaviorof in solution electrode 5％Na2S04 copper byusing array WU Hai Hong—yan，ZHOUQiong-yu，ZHONGQing-dong，SHENGYi，LIN Min-qi，WANG of Modem andMaterial of (KeyLaboratory Metallurgy Shanghai， Processing Shanghai University，Shanghai200072，China) self-corrosion curveandelectrochemical effectofF-on potential Abstract：Using polarization impedancespectrum，the thecorrosionelectrochemicalbehaviorof in solutionwas theelectrodeand copper5％Na2S04 investigatedby array electron resultsshowthatF-makesthecurrent and increased,self-corrosion scanning microscopy．The density potential electrochemi