垂直磁场作用下电沉积数值分析与试验-大连理工大学学报.PDF

第 卷第 期 大 连 理 工 大 学 学 报 , 53 5 Vol.53 No.5 年 月 2013 9 Set.2013 JournalofDalianUniversitofTechnolo p y gy 、 : ( ) 材料 机械工程 文章编号 1000-8608201305-0671-07 垂直磁场作用下电沉积数值分析与实验 , 12 1 2 *2 3 贾卫 平 , 贾振 元 , 苗 斌 , 吴 蒙 华 , 吴 承 原 ( , ; 1.大连理工大学 精密与特种加工教育部重点实验室 辽宁 大连 116024 , ; 2.大连大学 特种加工与功能材料制备辽宁省教育厅重点实验室 辽宁 大连 116622 , ) 3.大连理工大学 机械工程与材料能源学部 辽宁 大连 116024 摘要: 、 对电沉积过程中磁场 电场和流场进行数值分析并利用COMSOL仿真软件进行数值求 , 、 解 得到了无磁场作用和0.2T垂直磁场作用下流体流场分布 镀液中电场分布以及不同时间 , 段镀层厚度变化特征的数值结果 并对其进行了对比分析 为了解磁场对电沉积过程的影响规 . , 、 、 , , 律 分别在施加 和 磁场作用下电沉积镍 对比实验和数值分析结果表明 镀层 00.20.4 0.8T , , 厚度仿真值和实验值变化趋势接近 无磁场条件下平均绝对偏差为0.443 m 0.2T磁场条件 μ , 下平均绝对偏差为 施加 垂直磁场作用后 镀层的平均厚度较无磁场作用下 0.425 m. 0.2T μ , , ,