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- 2019-03-08 发布于广东
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艺
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薄膜工艺 主要内容
-
引言 F
薄膜的一般特性
PVD 原理与工艺F
CVD 原理与工艺
氧化 原理与工艺
N
S
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薄膜工艺 MOS晶体管中的薄膜层
-
氮化硅
顶部 F
氧化层
金属层
ILD 氧化层
多晶硅 场氧化层 多晶硅金属
F
+ + + +
n n p p
金属前氧化层 n
侧壁氧化层 −
p 外延层
栅氧化层
N +
S p 硅衬底
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薄膜工艺 主要内容
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