薄膜沉积技术与工艺.pdfVIP

  • 50
  • 0
  • 约5.61万字
  • 约 76页
  • 2019-03-08 发布于广东
  • 举报
艺 工 与 - 术 飞 技 钟 积 F 沉 膜 薄 F N S 台 - 平 工 加 薄膜工艺 主要内容 - 引言 F 薄膜的一般特性 PVD 原理与工艺F CVD 原理与工艺 氧化 原理与工艺 N S - 薄膜工艺 MOS晶体管中的薄膜层 - 氮化硅 顶部 F 氧化层 金属层 ILD 氧化层 多晶硅 场氧化层 多晶硅金属 F + + + + n n p p 金属前氧化层 n 侧壁氧化层 − p 外延层 栅氧化层 N + S p 硅衬底 - 薄膜工艺 主要内容

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档