光学薄膜的知识.pptVIP

三、光学薄膜(真空)制备工艺 一、真空系统及测量 二、蒸发技术 三、控制系统 四、辅助系统 五、薄膜材料 六、光学薄膜的依附体——基板 七、薄膜的检测 六、光学上常用的基板 一)、玻璃 2、有色玻璃 有色玻璃和镀膜在曲线上的区别 3、普通玻璃 4、特殊玻璃 二)、光学塑料 1、光学塑料的应用 2、 常见的光学塑料 3、光学塑料的类型 4、光学塑料的优势 5、光学塑料的缺点 三)、光学晶体 晶体的基本性质 晶体的几个重要的物理性质 光学晶体按用途分的类型 离子辅助IAD IAD技术是在电子束蒸发的同时用离子束轰击，离子由离子源产生，离子束由栅极引出，电子枪和离子源各自独立工作。膜层在离子的轰击作用下获得能量，使结构得到改善。 反应离子镀(RIP) RIP是个混合蒸发的过程：在电子枪蒸发的同时，等离子体发生源灯丝与电子枪蒸发材料的坩埚之间产生放电，被引入的反应气体与蒸发材料都被部分电离为等离子体，并在电场中被加速，在气体放电中离子与离子、离子与电子发生碰撞并反应，在荷能粒子的轰击下薄膜凝结基底表面。 三、控制系统 1、时间 2、颜色 3、光学控制 4、石英晶体震荡控制 光学膜厚监控系统 石英晶体法监控膜厚 主要是利用了石英晶体的两个效应，即压电效应和质量负荷效应。 石英晶体的压电效应的固有频率不仅取决于其几何尺寸、切割类型，而且还取决于晶片的厚度。当晶片上镀了某种膜层，使晶片的