有机分子PTCDA在P型Si单晶100晶面的生长机理.PDF

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第39卷  第6期 发  光  学  报 Vol39 No6 2018年6月 CHINESEJOURNAL OF LUMINESCENCE Juneꎬ2018 文章编号:1000 ̄7032(2018)06 ̄0790 ̄05 有机分子PTCDA在P型Si单晶(100)晶面的生长机理 1∗ 2 2 张  旭 ꎬ张  杰 ꎬ张福甲 (1. 兰州文理学院 电子信息工程学院ꎬ甘肃 兰州  730000ꎻ  2. 兰州大学 物理科学与技术学院ꎬ甘肃 兰州  730000) 摘要:对PTCDA 的分子结构及其化学键的形成进行了分析ꎬ并讨论了晶面指数(100)Si单晶的晶格结构ꎮ 在此基础上ꎬ评述了PTCDA分子在P ̄Si单晶(100)晶面上生长的机理ꎬ并制备了样品PTCDA/ P ̄Si(100)ꎮ 利 用XRD对样品测试得出ꎬ在P ̄Si(100)晶面上沉积的PTCDA薄膜中仅存在α物相ꎮ 利用XPS对样品测试得 出ꎬ在其界面层中PTCDA酸酐中的4个羟基O原子与C原子结合ꎬ其结合能为532.4 eVꎻ苝核基团外围的8 个C、H原子以共价键结合ꎬ其结合能为289.0 eVꎻ在界面处ꎬ悬挂键上的Si原子与PTCDA酸酐中的C、O原 子结合ꎬ形成C—Si—O键及C—Si键ꎬ构成了界面层的稳定结构ꎮ 关  键  词:有机半导体材料PTCDAꎻP ̄Si(100)晶面ꎻ生长机理 中图分类号:TN305.93      文献标识码:A      DOI:10.3788/ fgx0790 Growing Mechanism of Organic Molecule PTCDA at P ̄type Si Single Crystal(100) Crystal Face 1∗ 2 2 ZHANG Xu ꎬZHANGJie ꎬZHANG Fu ̄jia (1. School of Electronics and Information EngineeringꎬLanzhou University of Arts and ScienceꎬLanzhou730000ꎬChinaꎻ 2. School of Physical Science and TechnologyꎬLanzhou UniversityꎬLanzhou730000ꎬChina) ∗Corresponding AuthorꎬE ̄mail:303880606@qq.com Abstract:The molecular structure and the formation of chemical bonds of organic semiconductor materials PTCDAwereanalyzedꎬandthelatticestructureof crystalplaneindex (100)Sisinglecrys ̄ tal was discussed. On this basisꎬthe mechanism of the growth of PTCDA molecules on the crystal surface of P ̄Si single crystal(100) was reviewedꎬand the sample PTCDA/ P ̄Si(100) was pre ̄ pared. X ̄ray diffraction(XRD) measurement shows that there are only α ̄PTCDA phases

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