直流磁控溅射法在玻璃基片上制备犜犻荦薄膜.PDF

第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程 ２６ ２ Ｖｏｌ．２６ Ｎｏ．２ 　 　 　 　 　 年 月 ２０１３ ４ ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ａ ｒｉｌ ２０１３ ｐ ： ／ ｄｏｉ１０．３９６９ ．ｉｓｓｎ２０１３．０２．０１１ ｊ 直流磁控溅射法在玻璃基片上制备犜犻犖薄膜 １ １ １ ２ 王有欣 ，毛明旭 ，王英才 ，单玉桥 （ 辽宁科技大学 机械学院，辽宁 鞍山 ； 东北大学 材冶学院，沈阳 ） １． １１４０５１ ２． １１０００６ 摘 要：采用直流反应磁控溅射法在玻璃片上制备了ＴｉＮ薄膜，研究不同制备工艺条件与薄膜性能之间的 　 关系。用紫外 可见光分光光度计测试了不同沉积时间和 流量条件下 薄膜透光率；用 射线衍射仪 Ｎ２ ＴｉＮ Ｘ 分析了不同 流量和溅射功率条件下 薄膜结构；用扫描电镜（ ）观察了 薄膜的表面腐蚀形貌， Ｎ２ ＴｉＮ ＳＥＭ ＴｉＮ 用恒电位仪对 薄膜的耐腐蚀性进行了分析。结果表明：当沉积时间为 ， 流量为 ／ 时， ＴｉＮ ２ｍｉｎＮ２ １５ｍＬｍｉｎ 在可见光区有较高的透光率，在近红外区的透光率很低；当 流量为 ／ ，溅射功率为 时， Ｎ２ １５ｍＬｍｉｎ ４ｋＷ ＴｉＮ 薄膜的结晶最致密；当溅射功率为 时， 薄膜具有较好的耐腐蚀性。 ４ｋＷ ＴｉＮ 关键词：ＴｉＮ薄膜；直流反应磁控溅射；透光率；耐蚀性 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） ＴＧ１７４．４４４ Ａ １００７９２８９２０１３０２００６１０５ 　　　 　　　 犘狉犲犪狉犪狋犻狅狀狅犳犜犻犖犜犺犻狀犉犻犾犿狊犫 犇犆犚犲犪犮狋犻狏犲犕犪狀犲狋狉狅狀犛狌狋狋犲狉犻狀 狆 狔 犵 狆 犵 １ １ １ ２ ， ， ， ＷＡＮＧＹｏｕｘｉｎ ＭＡＯＭｉｎ ｘｕ ＷＡＮＧＹｉｎ ｃａｉ ＳＨＡＮＹｕ ｉａｏ ｇ ｇ ｑ （ ，