光刻机双工件台系统的FMECA分析-机械电子工程专业论文.docxVIP

万方数据 万方数据 FMECA FOR DUAL-STAGE SYSTEM OF LITHOGRAPHY MACHINE A Thesis Submitted to University of Electronic Science and Technology of China Major: Mechatronics Engineering Author: Jidong Zeng Advisor: Dan Lin School : School of Mechtronics Engineering 独创性声明 本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工 作及取得的研究成果。据我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地 方外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含 为获得电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。 与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明 确的说明并表示谢意。 作者签名： 日期： 年 月 日 论文使用授权 本学位论文作者完全了解电子科技大学有关保留、使用学位论文 的规定，有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁 盘，允许论文被查阅和借阅。本人授权电子科技大学可以将学位论文 的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或 扫描等复制手段保存、汇编学位论文。 （保密的学位论文在解密后应遵守此规定） 作者签名： 导师签名： 日期： 年 月 日 摘要 摘 要 光刻机是半导体元器件制造的常用装备，工件台系统、对准系统和曝光系统 是光刻机系统的三大核心组成。由于国外对我国的光刻机在技术方面实行封锁， 而且早期国内对光刻机这一高投入、高风险装备的重要性认识不足，导致我国的 光刻机产业发展落后。现阶段，提高光刻机技术对发展我国的半导体行业至关重 要。在光刻机的研制过程中，可靠性技术发挥着重要的作用。 工件台系统是光刻机的关键组成系统，主要功能是实现被加工工件的运动， 工件台的性能影响着硅片的加工质量。本文以某型光刻机双工件台系统为研究对 象，包括硅片台和掩模台两个子系统。两个子系统都采用粗动台和微动台相结合 的结构，粗动台实现大行程运动，微动台实现六自由度的微动。双工件台系统是 一个结构复杂、运动精度要求超高的运动系统，对可靠性要求也较高，可靠性分 析工作非常复杂。在双工件台系统的设计阶段对系统进行可靠性分析时，主要面 临着以下几个方面的问题： （1）缺少工件台系统的失效数据。 （2）系统可靠性程度较高，运行过程中发生失效的次数少。 （3）系统结构复杂，对其进行可靠性试验比较困难。 （4）目前对双工件台系统进行的可靠性分析工作很少。 针对上述问题，本文的主要内容如下： （1）对光刻机双工件台系统中硅片台和掩模台子系统进行故障树建模，通过 定性分析和定量分析找出两个子系统的薄弱环节。 （2）引入 GO 法对控制子系统进行建模和分析，评估控制子系统的可靠性。 （3）针对双工件台系统可靠性数据较少的情况，对硅片台和掩模台进行 FMECA 分析。采用专家打分的方式对两个子系统的故障模式进行评定，完成对两 个子系统的可靠性评估。 （4）针对专家打分过程中的数据冲突问题，采用基于 D-S 证据理论的信息融 合的方法对各个专家的权重进行再分配，对 FMECA 中的 RPN 值进行再计算。并 将这两种 RPN 计算方法与传统技术方法进行比较。 关键词：双工件台，故障树，GO 法，FMECA，证据融合 I ABSTRACT ABSTRACT Lithography machine is a kind of equipment for semiconductor manufacturing. Its core sub-systems include alignment system, exposure system and the wafer stage system. The technology blockade of foreign companies and impercipient importance of developing lithography technology in China has great impedes the development of Chinese lithography technology. It is very urgent to develop the lithography industry due to the importance of semiconductor. As an im