退火对NiCr薄膜阻值的影响分析-华侨大学学报自然科学版.PDF

30 1 ( ) Vol. 30 No . 1 2009 1 Journal of H uaqiao University ( Natural Science) Jan. 2009 : 2009) 01002 03 NiCr 1 1 2 1 2 谢 生 , 侯玉文 , 陈 朝 , 毛陆虹 , 陈松岩 ( 1. , 3000 2; 2. , 361005) : Si NiCr , NiCr . , NiCr , . 350 , , , ; 450 5 min , , . : ; ; ; + : O 484.4 2; T N 451 : A Si ( CM OS) , , [ 13] , InSb, CuIn, NiCr . 80 20 NiCr( Ni80 Cr20) , [ 4] , , , [ 58] . , , , , . NiCr , InP PINHEMT [ 9] , N i80 Cr20 . 1 1. 1 , N i/ Cr ( 1 200 , [ 10] Cr Ni 100 ) , Ni Cr . Ni/ Cr 80 20, JS3X100B Ni80 Cr20 . : 200 W, 20 r !min- 1, 25 , Ar 0 mL !min- 1, 10- 3 Pa. , Si 50 nm SiO2 , , NiCr , . , , NiCr 100 nm Au, , NiCr , 1 . , , RT P∀ 1 NiCr , N2 . Fig . 1 Cross section of 1. 2 NiCr film resistance XJ4810 , IV : : ( 1966) , , , . Email: hyw l@ t singhua. org . cn. : ( 60 36035) 28 ( ) 2009 , 1 mA !div- 1 0. 5 V !div- 1 . , . , . 2 NiCr 50 nm15 m 20 m , 1. 56~ 1. 0 k , R ave( 5 ) R s 1. 63 k 33. 96 , 1. # 10- 6 !m, 14. 1%. , Dektak3 Series , 50 nm NiCr 49~ 51. nm . 43 nm NiCr 1. 8~ 2. 3 k, , . , [ 11] ; , . , 150 W, 25 r !min- 1 , , 30 nm N iCr . 30 nm 50 nm 43 nm , NiCr . , 30 nm NiCr R s 51. 46 , 1. 54 # 10- 4 !m. s , , (R = / d) . 30~ 50 nm ,