新型湿法氧化对多孔硅发光强度的影响-Core.PDF

光 电 子 ·激 光 第 15 卷 第 8 期 　2004 年 8 月 Vol. 15 No. 8 　Aug. 2004 　　　　　 J ournal of Optoelectronics ·Laser 　　　 　　　 新型湿法氧化对多孔硅发光强度的影响 蔡贝妮 , 陈松岩 , 曾明刚, 蔡加法 (厦门大学物理与机电工程学院 ,厦门 361005) 摘要 :在适当条件下氧化多孔硅是提高多孔硅发光强度的良好途径。首次采用含 CH CSNH 的 HF 酸水