缓冲层对钴铁氧体薄膜结构和性能影响-微电子学与固体电子学专业论文.docxVIP

A A B S I，R A C T p erpen d ie ular an d p ara lle l e o erc iv itie s were 6 一6 .o K A m 一，an d 3 6 0 .5 K A m ‘，，re印 ecti v el苏 b ul its P erp e ndi cul ar ren以a n e nc e rat io was o uly 0 .4 9 . F ilm s ann e ale d at 8 0 0 ℃ h ad highe st eoerc ivity， its pe印end icul ar an d paral lel eoere ivities were 532 .6 K A m .l ana 3 s l .6 K A m .l，初 比 讲 印 e 诫 耐 ar rem ane nc e rati o o r o .7 3 ，咖 le n 恤 s anne ale d at g 0 0 0C had larg estpe红姆ndi cul ar rem anence rati o of o.go .川 1 filin s had high m agn eti乙吐ion an d rem ant m agne ti左币on ，皿d the C uri es tem Pe介由万es of C oF e20 月汀bF eC o/51(100) fllln s w ere also effe cte d by annealing tem Peratures. K ey w ord s: cob ait fe币te thin film s，high dens ity m agn etie reeording m edia，m agn eti e 面 n filin s 目录 目录 目 录 第 一 章 绪 论 ............. ... .. .................................… … l 1.1 引言 .......................................................… … 1 1.2 磁 记 录技 术及材 料 的发展 ......................................… … 1 1.2.1 磁 记 录 技 术 的发 展 ........................................… … 1 1.2.2 磁 记 录 材料 的发展 ........................................… … 4 1.3 钻铁 氧 体 薄膜 的应 用 与研 究 进 展 ................................… … 7 1.3.1 钻铁氧 体及其研 究应用 ....................................… … 7 1.3.2 钻 铁 氧 体 薄膜 的研 究进 展 .................................… … 7 1.3.2.1 脉冲激 光沉 积法 (P ul se Las er Depos it ion ) .............… … 8 1.3.2.2 磁 控 溅射 法 (Ma gne tr on Sput ter ing ) .....................… … 10 1.4 本论 文 的研 究 内容 ..............t............................… … n 第 二章 C oPe 刃;薄膜 的制 备 、表 征 和 测 试 ....… … ’.............. ..… … 1 3 2. 1 实验 方法 及 过程 二 l 3 2.2 Co Fe Z氏薄膜 的制 备 一 2.2.1 靶 材 的制 备 ............................................… … 13 2.2.2 基 片 的选 择 与清 洗 ......................................… … 14 2.2.3 薄膜 的制备 方 法 .............···… … 二 1 5 2 .3 co F e八 薄 膜 的分 析 和 测 试 二 1 7 2.3. 1 薄膜 的相 结构 分 析 .… . 1 7 2.3.2 薄膜 的微观 形 貌 分 析 二 . 1 8 2.3.3 薄 膜 的微 观 组 分 分 析 二 . 1 9 2 .3.4 薄 膜 的 磁 性 能 测 试 .… . 1 9 第 三 章 C oF e众 /Si ( 100