微波场助光催化氧化和其应用.PDFVIP

V o l. 23 高 等 学 校 化 学 学 报 　N o. 12　 2 0 0 2 年 12 月 　　 　　　　　CH EM ICAL JOU RN AL O F CH IN E SE U N IV ER S IT IE S　　　　　　　　　 235 1～ 2356　 [ 综合评述] 微波场助光催化氧化及其应用 李旦振, 郑　宜, 付贤智 (福州大学光催化研究所, 福州 350002) 摘要　从半导体光催化机理、微波制备光催化剂和微波场助光催化反应等几个方面, 简述微波在光催化领 域中应用的研究现状和进展, 探讨了微波紫外光的耦合对提高光催化量子效率的作用. 关键词　二氧化钛; 光催化; 微波 中图分类号　 643; 7　　　　文献标识码　 　　　　文章编号　025 10790 (2002) 12235 106 O X A [ 1～ 5 ] 光催化技术是 目前较理想且具有广阔应用前景的环境污染治理新技术 . 半导体氧化物催化剂 在特定波长的光线照射下, 表面受激活化后可氧化分解有机物、还原重金属离子、除臭、杀菌等. 光催 化技术可在室温下将水、空气和土壤中的有机污染物完全氧化成 2 和 2 等产物, 而传统的高温焚 CO H O 烧技术需要极高的温度, 即使是常规的催化氧化方法也需要几百度的高温. 而 目前广泛采用的活性碳 吸附法不能分解污染物, 只是将污染源转移. 光催化可直接利用太阳光作为光源来活化光催化剂, 驱 动氧化还原反应. 从能源角度来说, 这一特征使光催化技术更有前途. 但是, 光催化反应的量子效率 ( ) 低 ～ 4% , 难以用于处理量大和浓度高的工业废气和废水. 许多研究者尝试用如贵金属修饰、表面增 敏、复合半导体技术等来提高T iO 2 等光催化剂的量子效率, 但都不能有效地解决问题. 根据半导体能 带理论和固体表面化学理论, 如何从本质上通过增加光致电子空穴的产生率和抑制光生电子空穴对 的复合率来提高光催化过程的量子效率, 成为 目前光催化领域的关键性的基础研究内容之一. 自从 1986 年 Gedye [ 6 ] 首次将微波技术应用于有机合成反应以来, 该技术在化学中的应用已有较大 发展. 随着微波技术在无机固相反应、有机合成、环境化学、石油工业和冶金等领域应用的不断扩展, 微波也开始用于催化领域如催化剂的制备等. 由于 目前常用的光催化剂多为小晶粒度和大比表面积的 氧化物半导体材料, 与常规的晶态材料相比, 由于其小尺寸颗粒和庞大的体积百分比的界面特性, 界 面原子排列和键的组态的无规则性较大, 使光催化剂中存在大量缺陷. 一旦施加微波场, 物质发生弛 (