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應用差分干涉對比術於透明材質的三維形貌量測方法
余昇剛 林士傑 劉定坤
國立清華大學 國立清華大學 工業技術研究院
動力機械工程學系 動力機械工程學系 量測技術發展中心
g9633581@oz.nthu.edu.tw sclin@pme.nthu.edu.tw teicon@itri.org.tw
摘要
由於光電顯示產業如液晶顯示器、軟性顯示器的快速發展,越來越多種透明材質的基板及表面薄
膜結構逐漸被開發使用。而在商品化的過程中,必須面對品質檢測的需求;因此如何量測透明物件的
形貌尺寸,愈發重要。
本研究探討應用差分干涉對比(Differential Interference Contrast, DIC) 顯微技術於三維形貌量測
的可行性。差分干涉對比(DIC)顯微技術原為一影像強化技術;慣用於強化透明物件與背景之差異。
但檢視其原理,應可用於透明物件的三維形貌的量測上。原本用於影像強化時,利用積分將差分相位
還原時,計算精確度的要求並不高。但用於三維形貌量測時,如何降低雜訊對積分的影響便變得非常
重要。在本研究針對定量化的還原相位演算法,提出修正型傅立葉相位積分(Modified Fourier Phase
Integration, MFPI)重建演算法可以有效的降低雜訊的影響。
另外架設硬體量測實驗,驗證所提出的重建法應用於實際量測中。並研究不同光路型式的差分干
涉對比術(DIC) :反射式與穿透式量測的情形與差異,建構出能夠量測透明材質待測物表面三維形貌
的量測平台。
關鍵字:差分干涉對比術、表面形貌、透明物件、定量化相位還原、渥拉斯頓稜鏡。
壹、前言
由於大型顯示器、電腦螢幕、手機、數位相機、軟性顯示器(Flexible Plastic Display)等電子產品的
快速發展,使得以 ITO(Indium Tin Oxide) 導電玻璃或塑膠等透明材質製成的各種元件,如
TFT(Thin-Film Transistor)玻璃基板、透明電極、或是導光板等元件被大量的使用。為了兼顧良好的成
像品質與輕薄的需求,許多複雜的微結構被研究並量產在透明材料上。因此,發展一種可以檢測透明
材質三維形貌技術的重要性不言可喻。
目前的形貌量測技術可分類為接觸式的探針式儀器、原子力顯微鏡(AFM) ;以及非接觸式的光學
式輪廓儀(Optical Profiler) 、雷射掃描(Laser Scan) 。為了達到快速量測的需求,常使用非接觸式的光學
量測方式。但在這些量測方法中,由於透明物體的反射光不足,對於量測透明物體的外型是很大的一
個挑戰。
而在產業界中以干涉儀為最普遍的檢測方法,其精度可達次波長的等級。例如:Michelson 、Mirau 、
Linnik 、Fizeau 、Mach-Zander 、剪切(Shearing)干涉儀等。但根據使用經驗發現,其對於振動的免疫性
不高,應用於線上的工業檢測常會產生許多干擾,故較適合在實驗室等較佳的環境做檢測。其原因為
大多數的干涉儀採用的光路,兩道光中的參考光與待測光必須強度相等且在同調長度之內,才可產生
清楚的干涉調紋。若其中任一道光路受到振動影響,就會產生量測誤差。
另一方面,因應微小、動態且透明的生物組織觀察條件,許多顯微技術被開發。包括:共軛焦
顯微術(Confocal Microscopy) 、螢光顯微術(Fluorescence Microscopy) 、相位對比顯微術(Phase Contrast
Microscopy) 、差分干涉對比顯微術(Differential Interference Contrast Microscopy, 簡稱:DIC)等。其中,
DIC 顯微術在透明生物樣本的觀察上扮演重要的角色,本方法可強化透明材質與周圍環境的相位差別,
使觀察者容易分辨透明物體的形貌。本研究即以 DIC 技術為基礎建立一量測透明物體外型的量測方
法。
差分干涉對比術(Differential Interference Contrast Microscopy
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