磁控溅射Ni56Mn27Ga17合金薄膜的光学反射特性探究.pdfVIP

第35卷第3期 光学仪器 V01．35，No．3 2013年6月 OPTICALINSTRUMENTS June，2013 文章编号：1005—5630(2013)03—0077—03 Mn27 磁控溅射Ni56 Gal7合金薄膜的 光学反射特性研究* 周 围，刘 超，孙祺，张坤，牟海维 (东北石油大学电子科学学院，黑龙江大庆163318) 摘要：Ni—Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜是非常有用的多功能材料，为考察其光学反射特性，采 用磁控溅射技术在单晶硅衬底上沉积了NiseMnz，Ga。，合金薄膜，并对其表面形貌和光学反射特 性进行研究。研究结果表明，薄膜的表面粗糙度随退火温度的升高而增大；在300～800nlTl波 长范围内，薄膜反射率均随波长的减小而降低，且薄膜整体谱线范围内的反射率随退火温度的 升高而降低。 关键词：NiMnGa合金；薄膜；磁控溅射；光存储 11 中图分类号：TG 1．92文献标识码：A Researchon reflective of optical Ni56Mn27Gal7 properties thinfilms fabricated alloy bymagnetron sputtering ZHOUWei，LIUChao，SUN Haiwei Qi，ZHANGKun，MU ofElectronic (College Science，NortheastPetroleum University，Daqing163318，China) Abstract：Ni—Mn-Ga thinfilmsare magneticshape candidateof memoryalloy promising multi—functional materials．Inorderto its reflective exploreoptical properties，Ni56Mn27Gal7 thinfilmwas onto siliconsubstrate deposited single byusingmagnetron sputteringtechnique． Thesurface and reflective ofthethinfilm morphologyoptical properties were with