所用气体的类型-重离子如Ar+.PPTVIP

(5) 离子束溅射深度分析总结 Ar离子剥离深度分析方法是一种使用最广泛的深度剖析的方法，是一种破坏性分析方法。 其优点是可以分析表面层较厚的体系，深度分析的速度较快。其分析原理是先把表面一定厚度的元素溅射掉，然后再用XPS分析剥离后的表面元素含量，这样就可以获得元素沿样品深度方向的分布。 缺点是离子束的溅射会引起样品表面晶格的损伤，择优溅射和表面原子混合等现象。 应注意择优溅射问题、还原效应问题和表面粗糙度问题。 对于新一代的XPS谱仪，由于采用了小束斑X光源（微米量级），XPS深度分析变得较为现实和常用。 为了避免离子束的溅射坑效应，离子束的面积应比X光枪束斑面积大4倍以上。 8.3、磨角的深度剖析 对膜厚 d 1mm的薄膜，可进行线扫描球型陷口边缘或斜面磨角的深度剖析。 磨角深度剖析（Depth profiling of Angle Lap/Line Analysis） 8.4、面分布状态信息 样品表面可能并不均匀: 结构 Grids, arrays, patterns… 缺陷 Flaws, scratches, contaminant particles… 空位 Islands, holes... 2D分布状态信息 为研究样品的空间分布组织: Mapping 移动样品台, 用小X射线束斑定义分析面积 在每一点采谱来建立图（map） 分辨力受X射线束斑限制 Mapp