缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究-电化学.PDF

第 4 卷 　第 2 期 电化学 Vol. 4 　No. 2 1998 年 5 月 EL ECTROCHEMISTR Y May 1998 ·研究简报· 缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究① 高灿柱 　鹿玉理　刘汝涛　陈　方 ( 山东大学环境工程系 　济南 　250100) 李　树　本 ( 中国科学院兰州化学物理研究所 　兰州 　730000) 电镀镍是量大面广的镀种, 它作为镀铬、贵金属、仿金、枪黑、黑镍的底层 , 用途非常广 泛[1 ] . 在镀镍过程中 ,氢离子和镍离子在阴极上竞争还原 ,使得阴极附近溶液的 p H 高于本体 溶液. 当镀液的p H 较低时 ,氢离子还原较多 , 电流效率降低. p H 较高时 ,易形成氢氧化镍沉淀 而影响镀层质量. 即使镀液p H 控制在 3～5 的范围内 ,当无缓冲剂或搅拌强度不够或电流密 度太大时[2 ] ,也会在阴极附近形成氢氧化镍沉淀. 可见 ,缓冲剂对镀镍过程起着非常重要的作 用. 工业上一般采用硼酸作为电镀镍镀液的缓冲剂. James P. Hoare[3 ] 认为 :硼酸不仅起着缓冲 剂的作用 ,而且是电沉积镍的催化剂. 本文采用循环伏安法研究了硼酸、氯化铵和醋酸三种缓 冲剂对电镀镍的影响. 这方面的研究国内外尚未见报导. 1 　实验方法 电解液用分析纯试剂和三次蒸馏水配制, 基础电解液的成分是 1 mol/ LNiSO 加 0. 2 4 mol/ L NiCl2 . 实验在 298 ±l K ,p H = 2. 03 ,200 mL 的单室电解池中进行. 工作电极为铂电极 , 面积 0. 017 cm2 ;辅助电极采用大面积铂电极 ; 以饱和甘汞电极作参比电极. 工作电极采用文 献[4 ] 的方法进行清洗. 循环伏安图由 HDV7 型恒电位仪 ,L Z3204 型 XY 记录仪和 DCD1 型信号发生器完成. 2 　结果与讨论 2 . 1 　循环伏安图中各氧化还原峰的归属 ( ) 图 1 实线 示出对 Watts 镍电 ( ) 于电位区间 - 1. 63 ～ + 1. 63 V 解液 1 mol/ L NiSO ,0. 2 mol/ L NiCL , 0. 5 mol/ L H BO 4 2 3 3 (vs. SCE) , 以33 mV/ s 扫描速率进行电位扫描得到循环伏安图 , 图中显示两个阳极峰 a Ⅰ, a Ⅱ ① 本文收到 收到修改稿 　通讯联系人 　　　　　　1998 年 2·24 · 电 　化 　学 　　　　　　　 和两个阴极峰 c , c . 首先 , 当 Ⅰ Ⅱ 溶液中的氯离子浓度增大时 , a Ⅰ ( ) 和 c 峰均增大 见图 3 . 其次 ,如 Ⅰ 果电位扫不到 a 峰峰位处就往 Ⅰ 回扫 ,则在 + 0. 9 V 处不出现 c Ⅰ ( ) 峰 图略 . 最后 , a 、c 峰电位分 Ⅰ Ⅰ 别与文献 [5 ] 中氯离子的氧化峰 和氯的还原峰电位相同 , 因此 a 、c 峰