含羟基苯乙烯／甲基丙烯酸甲酯无规共聚物薄膜的.pdfVIP

第４０卷第４期 南　 京　 工　 业　 大　 学　 学　 报　 （自然 科 学 版） Ｖｏｌ．４０ Ｎｏ．４ ２０１８年７月 ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ ＮＡＮＪＩＮＧＴＥＣＨ ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ （Ｎａｔｕｒａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｅｄｉｔｉｏｎ） Ｊｕｌｙ ２０１８ － ｄｏｉ：１０．３９６９／ ｊ．ｉｓｓｎ．１６７１ ７６２７．２０１８．０４．００３ 含羟基苯乙烯／ 甲基丙烯酸甲酯无规 共聚物薄膜的界面行为 郭联忠，张　 浩，陈双俊，刘　 磊 （南京工业大学材料科学与工程学院，江苏 南京 ２１０００９） 摘　 要：通过自由基聚合方法制备一系列含侧羟基的不同苯乙烯含量的苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯的无规共聚物 （ＳＭＭＡ ｒＯＨ），并与含端羟基的不同苯乙烯含量的无规共聚物（ＳＭＭＡ ｔＯＨ）对比，研究化学改性硅片表面的界 面行为。 采用红外光谱（ＦＴ ＩＲ）、核磁共振波谱（ＮＭＲ）等手段进行ＳＭＭＡ ｒＯＨ的结构表征。 通过测量聚苯乙烯 （ＰＳ）和聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）两种均聚物、无规共聚物膜的水相与油相接触角得到极性和非极性表面能，计 算得到ＰＳ和ＰＭＭＡ均聚物与无规共聚物间的界面能，通过引入表面能极性占比参数，对比羟基接枝前后含羟基无 规共聚物的表面能。 结果表明：在 ＳＭＭＡ ｒＯＨ 中苯乙烯摩尔分数为５４％时，ＰＳ 与无规共聚物间的界面能和与 ＰＭＭＡ无规共聚物间界面能相等。 ＳＭＭＡ ｒＯＨ退火后表面基底覆盖率较高，相比于ＳＭＭＡ ｔＯＨ在洗涤前后的 界面行为变化较小。 证明侧羟基无规共聚物作为基底更适用于嵌段共聚物引导组装的中性基底。 关键词：嵌段共聚物；垂直结构；中性基底；含羟基无规共聚物；界面能 ＋ － － － 中图分类号：ＴＱ３１６３２ ２　 　 　 　 　 　 文章编号：１６７１ ７６２７（２０１８）０４ ００１３ ０８ Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ ｂｅｈａｖｉｏｒ ｏｆ ｈｙｄｒｏｘｙ⁃ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ ｓｔｙｒｅｎｅ／ ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ ｒａｎｄｏｍ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ ｆｉｌｍ ＧＵＯ Ｌｉａｎｚｈｏｎｇ，ＺＨＡＮＧ Ｈａｏ，ＣＨＥＮ Ｓｈｕａｎｇｊｕｎ，ＬＩＵ Ｌｅｉ （Ｃｏｌｌｅｇｅ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｎａｎｊｉｎｇ Ｔｅｃｈ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｎａｎｊｉｎｇ ２１０００９，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ａｒａｎｇｅｏｆ ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｃｏｎｔｅｎｔｏｆ ｓｔｙｒｅｎｅａｎｄｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅｏｆ ｓｉｄｅ⁃ｃｈａｉｎｈｙｄｒｏｘｙ⁃ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ ｒａｎｄｏｍ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ（ＳＭＭＡ⁃ｒＯＨ） ｗｅｒｅ ｐｒｅｐａｒｅｄ ｂｙ ｒａｄｉｃａｌ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ． Ｃｏｎｔｒａｓｔｉｎｇ ｗｉｔｈ ｄｉｆｆｅｒｅｎｔ ｃｏｎｔｅｎｔ ｏｆ ｓｔｙｒｅｎｅ ａｎｄ ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ ｏｆ ｅｎｄ⁃ｈｙｄｒｏｘｙｌ⁃ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｚｅｄ ｒａｎｄｏｍ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ（ＳＭＭＡ⁃ ｔＯＨ），ｔｈｅ ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ ｂｅｈａｖｉｏｒ ｏｆ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ ｓｕｒｆａｃｅ ｗａｓ ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ． Ｔｈｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｏｆ ＳＭＭＡ⁃ｒＯＨ ｗａｓ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄ ｂｙ Ｆｏｕｒｉｅｒ ｔｒａｎｓｆｏｒｍ ｉｎｆｒａｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｕｍ（ＦＴ⁃ＩＲ） ａｎｄ ｕｎｃｌｅａｒ ｍａｇｎｅｔｉｃ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ（ＮＭＲ）．Ｔｈｅ ｓｕｒｆａ