电势对硅片摩擦电化学材料去除特性的影响.pdfVIP

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2019-05-25 发布于天津
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电势对硅片摩擦电化学材料去除特性的影响.pdf

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第４６卷　第７期哈　尔　滨　工　业　大　学　学　报Ｖｏｌ４６Ｎｏ７　　２０１４年７月ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＨＡＲＢＩＮＩＮＳＴＩＴＵＴＥＯＦＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹＪｕｌ．２０１４　　　　　　电势对硅片摩擦电化学材料去除特性的影响王金虎，翟文杰（哈尔滨工业大学机电工程学院，１５０００１哈尔滨）摘　要：为了提高硅片抛光效率，改善抛光表面质量，采用电化学交流阻抗谱法实验研究了极化电势对硅片表面钝化作用的影响规律，结合摩擦电化学实验探讨了极化电势对硅片表面摩擦系数及材料去除特性的影响．结果表明，在碱性ＣｅＯ抛光液中，对硅片施加１Ｖ阳极极化电势能够促进其表面形成抑制腐蚀的钝化层，极化电势过高会破坏表面钝化２层，过低则抑制钝化层形成．良好的硅片表面钝化层能够有效增大其摩擦系数，提高摩擦电化学实验过程中的材料去除率．关键词：硅片；极化电势；钝化；摩擦电化学；材料去除－－－中图分类号：ＴＨ１７７２文献标志码：Ａ文章编号：０３６７６２３４（２０１４）０７００２００６Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎｐｏｔｅｎｔｉａｌｏｎｔｒｉｂｏ⁃ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｍａｔｅｒｉａｌｒｅｍｏｖａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｓｉｌｉｃｏｎｗａｆｅｒＷＡＮＧＪｉｎｈｕ，ＺＨＡＩＷｅｎｊｉｅ（ＳｃｈｏｏｌｏｆＭｅｃｈａｔｒｏｎｉｃｓＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＨａｒｂｉｎＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１５０００１Ｈａｒｂｉｎ，Ｃｈｉｎａ）Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｏｉｎｃｒｅａｓｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙａｎｄｉｍｐｒｏｖｅｓｕｒｆａｃｅｑｕａｌｉｔｙｏｆｓｉｌｉｃｏｎ，ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓｗｅｒｅｕｓｅｄｔｏｓｔｕｄｙｔｈｅｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎｐｏｔｅｎｔｉａｌｏｎｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎｏｆｓｉｌｉｃｏｎｗａｆｅｒ，ｂａｓｅｄ－ｏｎｗｈｉｃｈｔｒｉｂｏｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｔｅｓｔｓｗｅｒｅｄｏｎｅｔｏｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｔｈｅｅｆｆｅｃｔｏｆｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎｐｏｔｅｎｔｉａｌｏｎｆｒｉｃｔｉｏｎａｎｄｍａｔｅｒｉａｌｒｅｍｏｖａｌ．Ｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｔｈａｔｔｈｅｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎｆｉｌｍｗｉｔｈｂｅｔｔｅｒｃｏｒｒｏｓｉｏｎｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎｅｆｆｅｃｔｃａｎｂｅｏｂｔａｉｎｅｄｕｎｄｅｒａｎｏｄｅｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎｐｏｔｅｎｔｉａｌｏｆ１ＶｉｎａｌｋａｌｉｎｅＣｅＯｐｏｌｉｓｈｉｎｇｌｉｑｕｉｄ．Ａｈｉｇｈｅｒｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎｗｏｕｌｄｄｅｓｔｒｏｙ２ｔｈｅｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎｆｉｌｍ，ｗｈｉｌｅａｌｏｗｅｒｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎｗｏｕｌｄｓｕｐｐｒｅｓｓｔｈｅｆｏｒｍａｔｉｏｎｏｆｉｔ．Ｍｏｒｅｏｖｅｒ，ｔｈｅｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎｆｉｌｍｏｎｓｉｌｉｃｏｎｗａｆｅｒｃａｎｉｎｃｒｅａｓｅｓｕｒｆａｃｅｆｒｉｃｔｉｏｎｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔａｓｗｅｌｌａｓｍａｔｅｒｉａｌｒｅｍｏｖａｌｒａｔｅ．Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｓ