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脉冲激光沉积成膜 物理成膜方法 什么是脉冲激光沉积成膜 PLD的优点 PLD的缺点 PLD的物理机制 PLD的应用前景 脉冲激光束聚焦在固体靶的表面上。在表面大量吸收电磁辐射，导致靶物质快速蒸发。蒸发的物质由容易逃出与电离的物质组成。如果溶化作用在真空之下进行，蒸发的物质本身会实时在靶表面上形成光亮的等离子羽状物。简单来说，脉冲激光沉积PLD(Pulsed Laser Deposition)就是脉冲激光光束聚焦在固体靶面上，激光超强的功率使得靶物质快速等离子化，然后溅镀到目标物上。 基本过程 Plused laser PLD一般可以分为以下四个阶段： 激光辐射与靶的相互作用 熔化物质的动态 熔化物质在基片的沉积 薄膜在基片表面的成核与生成 　　对激光器要求 尽可能避免热效应：激光波长越短，越容易实现“冷加工”。所以193nm,248nm的准分子激光器和266nm,355nm的高次谐波ND:YAG固态激光器为常用的。 大能量，短脉冲创造要超过靶材的阈值的功率密度 　　对激光器要求 比较高的重复频率，提升溅射速度。 激光器使用简单，寿命长，易于维护（这一点Nd:YAG固态激光器要好于准分子激光器） The end Thank you！ * * 物理成膜方法 ?物理气相沉积方法 ?分子束外延成膜 ?脉冲激光沉