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薄膜电晶体液晶显示器资料

奇美電子股份有限公司 TFT-LCD (薄膜電晶體液晶顯示器) 組 員 : 李 薇 貞 吳 玟 宜 王 美 月 劉 瓊 文 顏 嘉 君 報告大綱 TFT-LCD簡介 產品介紹 產業概況 奇美公司簡介 國內主要競爭對手 國外競爭對手 供應商與下游廠商 選擇一適當產品做為未來研究之用 TFT-LCD簡介 1. 何謂TFT-LCD? 薄膜電晶體-液晶顯示器(TFT-LCD)的面板基本架構如圖一所示:簡單的講,它是一個以電信號控制的光開關裝置。液晶介於兩片透明導電之銦錫氧化物(ITO)電極之間,經由加在ITO電極上的電壓高低可以控制不同的液晶排列方向(如圖二),而液晶的排列方向與光線的穿透量有關,進而造成畫素的亮暗程度不同,這就是灰階的控制原理(顏色則是由彩色濾光片產生)。此畫素的灰階是由資料驅動器(Data driver)所能提供的分電壓數目決定。 2. TFT-LCD使用材料: 就TFT-LCD製造成本結構部份,材料成本佔總成本高達51%(如表二)也是一項TFT-LCD產業特性。其中彩色濾光片、偏光板、驅動IC則是目前TFT-LCD產業的關鍵零組件。雖然國內TFT-LCD材料廠商在關鍵零組件的供應能力近年來已有長足的增長,但除材料製造技術主要仍來自日本廠商外,就產業規模上與日本廠商更是有段差距。在國內廠商紛紛投入更高世代TFT-LCD技術生產之際,預計面板未來將會有供過求的現象,故面對的將是面板價格降低,獲利空間縮小的市場。 因此如何降低整體製造成本將是獲利與否的關鍵所在。由於關鍵製造技術與零組件仍大部份掌握在國外廠商手中,國內廠商降低整體製造成本的方法除了將關鍵零組件內製化或與材料供應商策略合作以降低材料成本外,另如何提升生產良率與提高設備使用率等提高製造能力的方法,亦是降低整體製造成本,提昇企業競爭力的不二法門。 3. 液晶顯示模式: 在TN型LCD中,多使用正型液晶,電極置於液晶層上下兩側,當施加電壓形成電場時,液晶分子會與電場平行,因此液晶分子會傾向垂直排列。在MVA型的LCD中,多使用負型液晶,電極置於液晶層上下兩側,當施加電壓形成電場時,液晶分 子會與電場垂直,因此液晶分子會倒下。在 IPS 型的LCD中,多使用正型液晶,成對的電極 置於同一側,當施加電壓形成電場時,液晶分子 會與電場平行,因此液晶分子會在同一平面旋轉。 在TN型LCD中,不同的觀賞角度會看到不同的相位差值,因而感受到不同的亮度,甚至可能看到灰階反轉的現象。 在MVA型的LCD中,由於液晶互相補償的排列方式,使得不同視角也會看到相同的相位差值,因此不會有灰階反轉的現象。 IPS於玻璃邊使用成對的電極,使電流平行的通過材料。此種技術使液晶平行於前螢幕,因而增大視角。 4.TFT-LCD的製程: 圖為TFT-LCD製程,列陣製造技術主要是將玻璃基板透過類似半導體製造技術 ( 鍍膜、曝光、顯影、蝕刻等技術 ) 在基板上形成為數眾多的電晶體,由於國內半導體製作技術的成熟,國內在列陣製程良率均高。組立製造技術主要是將列陣製程完成的基板與彩色濾光片基板分別作配向處理,並透過檢準機械對位壓合,再進行框膠燒成,切割成預定尺寸面板,再注入液晶,並將偏光板貼附,並做檢測工作,此製程難度甚高(亦是國內廠商自日本技術移轉主要部份),是LCD面板製作程序中良率最低的一環。 最後則是面板模組製作,主要是將切割完成的面板與驅動IC、電路板、背光模組等外部零組件組立起來成為LCM,之後再做最後的檢查。由於LCM製程並不複雜,國內多年來亦已累積相關的裝配技術,良率應可達高水準的要求。 TFT-LCD製程 5.TFT-LCD 製程規劃目標 如上所述在TFT-LCD製程中包含了半導體製程、液晶製程與裝配製程,由於各階段之製程特性不同,故各製程之規劃目標亦會有差異。 就TFT-LCD各製程之規劃目標說明如下: Array製程規劃目標- 考慮回流生產與共用機台的特性,使各設備對各產品的生產能平穩化,以達到各製程WIP的平衡(balance),進而降低製造週期時間(cycle time),增加產出。同時在滿足最終產品需求的前提下達到瓶頸資源使用率的最大化。 Cell製程規劃目標- 考慮彩色濾光片、列陣製程的供貨狀況以及滿足最終產品需求的前提下(上下階製程供需平衡),儘可能提高各設備的資源使用率。 Module製程規劃目標- 配置各等級的產品給顧客,儘可能滿足顧客的需求(Demand Allocati

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