液晶面板的主要制造工序.pptVIP

What is TFT/LCD ? TFT----薄膜晶体管 Thin Film Transistor LCD----液晶显示器 Liquid Crystal Display 高对比度，因为可以单独控制一个像素点，因此可以将对比度提升至很高，灰度实现也更加容易，结果就是可以轻易实现更鲜艳的色彩； 高响应速度， TFT也继承了TN型快速响应的特性； 宽视角，额外的LC Film也有助于提高TFT的视角范围。 大容量显示，TFT几乎可以说是目前最完美的LCD产品。 黑白机，都是用FSTN LCD 彩屏分为CSTN（绝大多数，包括UFB）和TFT（高档）两种。 CSTN响应速度慢，色彩不丰富，不够饱满，只是低档的彩屏。 TFT除了耗电量较CSTN大之外，所有性能上都超越CSTN很多，只要你银子够多，TFT手机肯定会让你满意。 1、彩色滤光片的制造 What is Color Filter ? Color Filter 于 LCD 扮演的角色: 色彩魔法师---藉由色彩组合,使LCD展现出丰富的颜色 CF Process: BM - R - G - B - ITO - PS CF 成品 2、TFT制造工序 成盒/制屏的工序 成盒/制屏的工序 date line gate line Cst TFT A A’ B B’ S/D Cs line B’ B A’ A date line gate line Cst TFT A A’ B B’ Passivation Cs line B’ B A’ A date line gate line Cst TFT A A’ B B’ ITO Cs line B’ B A’ A pixel electrode date line gate line Cs line B’ B A’ A pixel electrode TFT CLC Cst Equivalent Circuit (Cs on com) (2)清洗工序 清洗工序是指将初期投入或工序中Glass或膜表面的污染、Particle事先除去，以免发生不良的工序。对确保膜与膜之间的黏着性有所帮助。主要Unit有： UV清洗Unit Brush清洗Unit Mega Sonic Unit CJ( Cavitation Jet) Unit。 污染物对策 对向配列 刷毛下壓量 0.5 mm 轉速 600 RPM Brush洗净原理 目的－以机械力将3μm以上大粒子刷除,并配合洗剂进行清洗 CJ洗净原理 目的:利用高压液体和气体混合所产生之气泡，在基板表面破裂瞬间所产生之冲击波，将微粒子(约1 μ m～5 μ m)从基板表面剥离。 Nozzle Nozzle 純水 基板 氣泡在基板表面破裂瞬間所產生之衝擊波將微粒子剝離 水壓：10～20Kg/cm2 MS洗净原理 目的：利用超音波洗净技术将小粒径粒子(约1 μ m以下)去除 ※ 超音波在1MHz产生之加速度为重力加速度之105倍。 ※ 25℃下，音速C＝1500m/sec，以频率f＝1MHz， λ/2=0.75mm，产生Cavitation音波强度之最低限度功率≧100W/cm2。 UV光洗净原理 挥发除去Process－ 1.基板所附着之有机物多为高分子量，不易挥发去除 2.以高能量UV照射，将有机物分解成小分子量物质 3.小分子量有机物再与UV所产生之O3反应产生CO、 CO2、H20等挥发物 (3)Photo 工序 Photo 工序是指用膜上形成要制作形态的Mask通过光, 其形态从Mask移到感光剂(PR)的作业，包括感光剂涂屏(PR Coating)、曝光及显像等的工序。 (4)刻蚀工序 刻蚀工序是指对去除感光剂(PR)部分的膜, 利用物理、化学方法有选择地去除的工序。 刻蚀方式有如下的两个方式： 1.Wet Etching是利用化学溶液刻蚀金属物质(铝，铬， ITO，钼)的方式； 2.Dry Etching利用Gas Plasma刻蚀 SiNx ，a-Si 的方式。 (5)脱膜工序 脱膜工序是指刻蚀工序后，去除为形成Pattern而留下的感光剂(PR)的工序。