集成电路版图设计-第十一章.pptVIP

第十一章 使用L-Edit 画PMOS布局图 L-Edit 是一个画布局图的工具，即以各种不同颜色或图样的图层组合光罩的图样，本章的范例绘制PMOS 组件与NMOS 组件的布局图 操作流程：进入L-Edit---建立新文件---环境设定---编辑组件---绘制多种图层形状---设计规则检查---修改对象---设计规则检查。 (1) 打开L-Edit 程序 (2) 另存新文件 (3) 取代设定 (4) 编辑组件 (5) 设计环境设定 (6) 选取图层 (7) 绘制N Well 图层 (8) 截面观察 (9)绘制Active 图层 (10) 截面观察 (11)设计规则检查 (12)绘制P Select 图层 (13) 绘制Poly 图层 (14) 设计规则检查 (15) 检查错误 (16) 修改对象 (17)截面观察 课后练习 修改本范例截面流程的定义文件lights.xs的内容，将poly流程的顺序提到p+扩散与n+扩散的前面，并观看截面观察功能显示的结果。 修改本范例截面流程的定义文件lights.xs的内容，去掉poly流程的步骤，并观看截面观察功能显示的结果。 (10) 截面观察： 利用截面观察功能观察主动区绘制后的截面图。选择 Tools---Cross-Section 命令(或单击按钮)，打开Generate Cross-Section 对话框，单击该对话框 中的Browser 按钮，在弹出的对话框中选择．．＼．．＼LEdit82＼Samples＼SPR＼example1 ＼lights．xst 文件，单击Pick 按钮在编辑画面选择要观察的位置，再单击Generate Cross-Section 对话框的OK 按钮，结果如图11．12 所示。根据布局图绘制的Active 的部分， 从图中可看出Active 以外的部分皆被厚氧化层所覆盖。基板露出部分即为Active 定义的部 分。 (11)设计规则检查：由于绘制的图样是要制作集成电路的光罩图样，必须配合设计规则 绘制图层，才能确保流程时的效率。选择Tools---DRC 命令，打开Design Rule Check 对话框， 选中Write errors to file 复选框将错误项目纪录至Cell0．drc 文件或自行取文件名，若单击“确 定”按钮，则进行设计规则检查。进行设计规则检查的结果如图11.13 所示。发现有一个错 误，单击“确定”按钮后，可选择Tools---Clear Error Layer 命令清除错误符号，或单击按钮 清除。 利用L-Edit 中的File---Open 命令打开错误纪录文件Cell0．drc，打开Cell0．drc 的内容 如图11．14 所示，有一个错误，系统显示是违背了设计规则4．6，并标出发生错误的坐 标范围 先回到Exl0．tdb 文件观看本范例设计规则的4．6 规则是什么，选择Tools---DRCSetup 命令，打开Setup Design Rules 对话框(或单击按钮)，从其中的Rules list 列表框中选择4．6Not Existing 选项，可以观看该条设计规则设定，如图11．15 所示。 此规则说明Not Selected Active 层不能存在，Not Selected Active 层的定义可以选择 Setup---Layer 命令观看其定义，如图11．16 所示。4．6 规则是说Active 图层必须要与P Select 图层或N Select 重叠，而不能单独存在，否则设计规则检查会有错误。 (12)绘制P Select 图层：设计了Active 的布局区域之后，并需加上P Select 或N Select 图层与Active 图层重叠。在PMOS 中需要布置的是P 型杂质，P Select 图层在流程上的意义 是定义要布置P 型杂质的范围，故需要设计光罩以限定P 型杂质的区域。但要注意P Select 区域要包住Active 图层，否则设计规则检查会有错误。同样，绘制P Select 图层必须先了解 是使用哪种流程的设计规则，本范例是使用MOSIS／ORBIT 2．0U 的设计规则。要观看P Select 图层绘制要遵守的设计规则可选择Tools---DRCSetup 命令，打开Setup Design Rules 对话框(或单击按钮)，再从Rules list 列表框中选择4．2b／2．5 Active to P-Select Edge Active Minimum Width 选项，如图11．17 所示。 从4．2b 规则内容可知，若Active 完全在P Select 内，则Active 的边界要与P Select 的 边界至少要有两个Lambda