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無機性廢水處理 壹、無機污染源種類 電鍍、金屬、印刷電路板、金屬表面處理 重金屬 鎳、銅、鋅、鎘、鉛、鐵、錫等 氰系廢水及鉻系廢水 氰化物及六價鉻之毒性最大,六價鉻主要以CrO3、CrO42-、Cr2O72-等類型存在 常以化學沉澱、化學氧化還原、離子交換法及電解回收法為其廢水處理方法 半導體製造業、光電業廢水 半導體製造業 酸鹼廢水、氟系廢水、研磨廢水 光電業廢水 酸鹼廢水、氟系廢水、砷系廢水、研磨廢水 其他無機污染源 化學肥料製造業,其廢水含有氮、磷 玻璃業,具有含氟廢水 電池製造業,含重金屬廢水 貳、固體物去除 一、攔污柵 二、沉砂池 三、沉澱池 四、過濾池 五、薄膜過濾程序 攔污柵 攔污柵基本原理 往復式攔污柵(柵欄式攔污柵) 循環移動式水篩機 固定式水篩機 旋轉筒式水篩機 沈砂池 沉砂池基本原理 水平流式沉砂池 渦流式沉砂池 曝氣沉砂池 曝氣沉砂池設計參數 沉澱池 沉澱之型態 沉降試驗 沉降試驗 矩形沉澱池 底泥及浮渣清除設備 圓形沉澱池 傾斜板沉澱池 高速膠凝沉澱池 污泥氈式澄清池 浮除池 浮除池 釋出空氣質量/固體質量(A/S) 浮除池 輔助浮除添加劑 過濾池 過濾池基本原理 過濾機制 濾料種類 操作參數(1/3) 操作參數(2/3) 操作參數(3/3) 薄膜過濾程序 薄膜型態 平板式薄膜 (flat plate) 管式薄膜(tubular) 螺旋捲式薄膜(spiral wound) 中空纖維式薄膜(hollow fiber) RO薄膜種類 RO薄膜型式 螺旋捲式膜及中空纖維膜 MF/UF/NF應用 RO之應用 RO膜之阻塞種類與機制(1/3) RO膜之阻塞種類與機制(2/3) 顆粒或膠體性阻塞: 顆粒性及膠體性積垢一般包括有懸浮固體物及金屬膠體,如SiO2、Fe2O3、Al2O3等,一般而言,此類物質於MF、UF之過濾程序中,阻塞機制為直接沉積於膜表面或進入薄膜孔洞之中,然由於RO膜之孔徑約小至0.001 ?m (小於1000 MWCO),因此顆粒及膠體性積垢之形成機制,主要以表面沉澱或受其他具黏性有機質黏附為主 - 衡量水質是否適宜進入RO單元之重要指標: SDI (silt density index)值,當SDI 2 ~ 3,方可進入RO處理單元 SDI (silt density index) RO膜之阻塞種類與機制(3/3) 無機性結垢: - 當水流經RO膜表面,滲透液不斷被移除,同時濃縮液不斷濃縮,當濃縮液之鹽類濃度被濃縮至超過某限值,則將產生鹽類沉澱析出,並於膜表面結垢。 - RO膜之無機性結垢主要受濃縮水之濃縮倍率影響。一般而言,經一階段RO膜後,其濃縮液濃度約可增加2倍,經二階段RO膜則可增至4 ~ 5倍,RO膜表面最常見之結垢物包括有CaCO3、CaSO4、BaSO4、CaF2及SiO2等。 - 水中鹽濃度、離子強度、各鹽類溶解度、溫度、pH值及RO水回收率等皆為影響結垢物於膜表面沉澱析出之重要參數。 參、溶解性無機物去除 一、中和 二、混凝與膠凝 三、化學沉澱 四、離子交換 五、化學吸附 六、化學氧化還原 七、消毒 中 和 中和反應 中和反應係指將水中含氫(H+)之酸性化合物與鹼性之氫氧基(OH-)反應,生成水和鹽類之化學反應。 理論上pH值是以水溶液中氫離子活性取對數值乘以負號,但在低離子强度時可以用氫離子濃度表示。 水溶液溫度為25℃,pH = 7.0時為中性,pH 7.0代表水溶液呈酸性,pH 7.0代表水溶液呈鹼性。 中和劑之種類 酸性廢水之製造工業包括:金屬工業、有機工業、染整工業、電鍍工業、印刷電路板製造業等。 氫氧化鈉 (NaOH) 蘇打灰 (Na2CO3) 鹼性廢水之製造工業包括:化學工業、製紙工業、皮革工業、石油精製工業、染整工業等 。 硫酸 (H2SO4) 中和劑的應用 混凝單元 以鋁系或鐵系之混凝劑進行混凝沉澱操作,各有其適當之反應pH值。 金屬化學沉澱 藉由添加提高pH值,使產生氫氧化金屬沉澱,然各種金屬皆有其最適沉澱pH值。 高級氧化 Fenton氧化法之反應最適pH值為2 ~ 4之間。 逆滲透 (RO) 處理程序 為預防結垢,需將進流水調整至適當之pH值,使水中鹽類之溶解度最大。 其他 含氰化物之廢水處理系統中,為防止HCN毒性氣體之產生,則需要將廢水之pH值維持在鹼性。 混凝與膠凝 混凝與膠凝 廢水中溶解性無機物藉由以化學沉澱等方法轉變為無機顆粒後,其顆粒粒徑往往小至無法以重力直接沉降,因此必須藉由混凝等程序使顆粒聚集、粒徑放大,以利沉降去除。 溶解性無機污染物經化學沉澱析出後,顆粒之表面電性會影響混凝劑及絮凝劑的選擇。 電雙層理
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