氮化硅陶瓷球化学机械抛光机理的研究.pdf

氮化硅陶瓷球化学机械抛光机理的研究———朱从容 吕冰海 袁巨龙 暋 暋 氮化硅陶瓷球化学机械抛光机理的研究 , 1 2 23 朱从容 吕冰海 袁巨龙 暋 暋 , , 1.浙江海洋学院 舟山 316004暋 , , 2.湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心 长沙 410082 , , 3.浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 杭州 310014 : , 摘要 为探究氮化硅陶瓷球化学机械抛光过程及磨料与工件材料的相互作用规律 选用四种不同的 。 , 磨料对氮化硅陶瓷球进行了抛光实验 通过对抛光后表面粗糙度的检测 讨论了不同种类磨料对工件 。 , 。 表面粗糙度的影响 利用SEM观测工件表面形貌 探讨了不同磨料对工件的材料去除方式 采用X , 射线衍射技术分析了水基 CeO2磨料抛光氮化硅陶瓷球后工件表面的化学反应生成物 对化学机械抛 , 。 , 光的热力学分析进行了验证 分析了其化学机械作用过程 结果表明 CeO2 是抛光氮化硅陶瓷球非常 , , 有效的一种磨料 利用水基 CeO2抛光液对氮化硅陶瓷球进行化学机械抛光 获得了表面粗糙度Ra为 4nm的光滑表面。 : ; ; ; 关键词 氮化硅陶瓷球 化学机械抛光 固相反应 射线衍射 X 中图分类号: 文章编号: — ( ) — — TH161暋暋暋 1004 132X201010 1245 05 MechanismofChemo-mechanicalPolishin ProcessforSiliconNitrideBalls g , 1 2 23 ZhuConron 暋L湽Binhai暋YuanJulon g g g g , , , 1.Zheian OceanUniversit ZhoushanZheian 316004