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ICP-MS 干扰消除技术的选择及其应用;ICP-MS的性能特点;ICP-MS的基本原理及工作模式;ICP-MS中的干扰(环境检测领域);ICP-MS中干扰可分为两大类:质谱干扰和非质谱干扰(基体效应)
质谱干扰
同量异位素重叠;
多原子或加合物离子;
难熔氧化物离子;
双电荷离子。
非质谱干扰—基体效应
空间电荷效应
信号的抑制或增强效应;
由高含量总溶解固体引起的物理效应。;空间电荷效应;ICP-MS非质谱干扰的消除方法;ICP-MS质谱干扰——同质异位素干扰;;ICP-MS质谱干扰(1)——多原子离子干扰;ICP-MS质谱干扰(1)——多原子离子干扰(氧化物干扰);ICP-MS质谱干扰(2)——双电荷干扰;ICP-MS干扰——如何消除质谱干扰;质谱干扰的消除(1)——仪器参数的优化;RF 功率对离子强度的影响;雾化气流量对离子强度的影响;ICP参数之间对离子强度的影响;质谱干扰的消除(2)——选择同位素、干扰校正方程;Spectral Interference - Isobaric Corrections;;;质谱干扰的消除(3)——冷等离子体;质谱干扰的消除(4)——碰撞/反应池技术;通用池技术 (UCT?);碰撞模式如何工作?;KED模式; DRC中的分子离子反应;DRC的使用效果(CH4气体);DRC对Se的干扰消除;动态反应池(DRC);低含量K,Ca, Fe分析;Ar+/Ca+信号 vs 反应气流速 ;10% HCl中Cr的反应气优化;谢谢!
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