11、气相沉积技术研究现状与进展.docVIP

气相沉积技术研究现状与进展 陈向阳，张瑾 （安徽理工大学机械工程学院，安徽 淮南 232001） 摘要 介绍了气相沉积技术的原理、分类、研究现状和发展趋势，并介绍了气相沉积技术硬质涂层在工业中的应用情况。 关键词 气相沉积；现状；趋势 气相沉积技术是一种获得薄膜厚度在微米数量级的技术。它是在真空中产生待沉积材料的蒸汽, 然后将其冷凝于基体材料上, 而产生所需要的膜层。主要有物理气相沉积和化学气相沉积, 以及在此基础上发展的物理化学气相沉积。在物理气相沉积情况下, 膜层材料由熔融或固体状态经蒸发或溅射得到, 而在化学气相沉积情况下, 沉积物由引人到高温沉积区的气体离解所产生。由于气相沉积获得的膜层具有结构致密、厚度均匀、与基材结合力好等优点, 尤其是可以制备多种功能性薄膜, 因此作为一种新的表面改性技术, 它引起了极大的关注和研究, 得到了迅速的发展。已成功地应用于机械加工如各种刀具等、建筑装修、装饰、汽车、航空、航天、食品包装、微电子光学等各个领域中。 1 气相沉积技术分类 1.1 物理气相沉积技术 物理气相沉积(PVD)指的是利用某种物理的过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原于转移过程。这种薄膜制备方法相对于下面还要介绍的化学气相沉积方法而言，具有以下几个特点： (1)需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过程的源物