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DWDM光學鍍膜介紹與解析 前 言 隨著行動電話與網際網路等通信量急速增加， 連接幹線及都會之區間的光纖傳輸容量亦隨之暴漲。 增加通信容量有兩種方法， 一種是提高變頻速度的多重時 間光增幅器廣波域技術提升相對分割法（ TDM, Time Division Multiplexing ）， 另外一種是以單一光纖傳輸不同波長光信號之多波長方式（ WDM, Wavelenght Division Multiplexing ）。由於地也帶動著高速化與高密度波長多重化演進，換 言之它所使用的 Filter 種類與波長亦隨之多樣化。 Filter 鍍膜基於耐環境、溫 度、穩定性等系統考量，通常採用離子（ Ion ）/ 等離子鎗（ Plasma Gun）與濺鍍 Suptter ）或電子束（ EB，Electric Beam）等方式。然而鍍膜時有關膜厚監控 Monitor ）、重複再現性、良率改善、自動化等諸多問題仍有待鍍膜廠商突破。鍍膜方法 電子束（EB）蒸鍍方式容易形成柱狀膜結構，為獲高充填率（ Packing Density ）的膜層，通常會採用 Ion 照射基板方式，經 Ion 照射後由於離子（ Ion ）的能量使基板上形成活性核，同時促進核成長及核凝縮 Coalescence ），進而獲得高充填率的膜層。 電子束（ EB）蒸鍍源與離子 / 等離子鎗（ Plasma Gun）的組合又可