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4.3.2 多功能薄膜—SnO2 由于SnO2具有良好的吸附性、较低的电阻温度系数及化学稳定性，因此容易沉积在诸如玻璃、陶瓷材料、氧化物材料及其他种类的衬底材料上。SnO2薄膜的主要用途有：薄膜电阻器、透明电极、气敏传感器、太阳能电池、热反射镜、光电子器件、电热转化等。 纳米薄膜材料. 谢谢 * B. 高温材料的低温合成 利用溅射技术可在较低温度下制备许多高温材料的薄膜，如TiN、TiC、B4C、BiC、PbTiO3等。 SiC (熔点mp:2700 ℃,带隙能量Eg: 3.0eV)可用作电致发光器件（蓝），在－100～500℃具有稳定的电阻温度特性；用CVD法制备时，衬底温度1330 ℃ （H2，SiH4，C3H8)；溅射法制备温度在 500 ℃ （靶SiC ）。 C. 多层结构的连续形成 采用变换放电气体或多靶轮换法可制备化学组成逐层变化的多层膜。 4. 离子镀膜 离子镀就是在镀膜的同时，采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。离子轰击的目的在于改善膜层的性能。离子镀是镀膜与离子轰击改性同时进行的镀膜过程。 （1）离子镀的原理（P61） 离子镀中轰击离子的能量比热蒸镀和溅射镀高得多。离子轰击可以提高靶材原子在膜层表面的迁移率，有利于获得致密的膜层。 1、阴极 2、蒸发源 3、进气口 4、辉光放电区 5、阴极暗区