- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 激光核聚变脉冲电源 神光III能源模块系统设计 Kefu Liu, Jin Li, and Yuan Pan, A Fault Analysis and Design Consideration of Pulsed-Power Supply for High-Power Laser, IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE, VOL. 31, NO. 2, APRIL 2003 单路能源模块驱动10路氙灯电流波形 输出150kV, 180个MOSFET 串联 国际会议 IEEE Power modulation Conference IEEE International Pulsed Power Conference 1976年~ 2003年,第14届在美国 IEE Pulsed Power Symposium,欧洲 13th High current electronic conference ,俄罗斯 脉冲功率国际会议,中国 高功率电子学会议 各专业会议 加速器、雷达、激光、微波、等离子体、粒子束、强磁场、环保医疗等等 科学杂志文献 IEEE Transaction on Plasma Science IEEE Pulsed Power Conference IEEE Beams Laser and Particle Beams 强激光与粒子束 高电压技术 学术组织 IEEE Plasma Science Pulsed Power Power Modulation 中国核学会脉冲功率分委会 中国工程物理研究院 西安核技术物理研究所 国防科技大学 清华大学 华中科技大学 复旦大学 www.pulsed-power.de /nessengr/ (University of southern California) / (University of Texas) 脉冲功率系统的原理与应用(中文版) 江伟华翻译,清华大学出版社 (原版:Pulsed power systems,--principles and applications H. Bluhm, Springer-verlag publication) 脉冲功率技术基础 韩旻等,清华大学出版社 Transient electronics P. W. Smith, John Wiley SONS, LTD 高功率脉冲技术 刘锡三, 国防工业出版社 Pulsed power,Gennady A. Mesyats 学会查找和阅读资料 动手设计和试验 勤于思考 发现问题,解决问题 开拓应用 * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 电能 电容器 电感 超导 机械能(电机) 电容器(脉冲陡化) 电感 电阻 开关 磁压缩开关 变压器(升压,脉冲变换) 传输线 PFN(Pulse Forming Network) 1、MOSFET 2、IGBT 3、SCR/ GTO/ IGCT 4、PCSS 5、磁开关 6、其他新型半导体开关 充电储能技术 开关技术 脉冲调制 系统集成 脉冲功率源发生器 广泛应用 高功率 高重复频率 高可靠性 高稳定性 高效率 小型化 长寿命 与多种应用相结合 1、国防军事 2、工业领域 3、科学技术研究 电磁波吸收和反射(等离子体隐身)(国防) 高功率激光(国防) 高功率微波(国防) 超宽带雷达(国防) 加速器(国防、科学、工业、医学) 大面积非平衡等离子体产生 等离子体材料改性、刻蚀 脱硫脱硝(环保) 脉冲放电除尘(环保) 高效臭氧产生(环保) 污水处理(环保) 甲烷制氢(能源) 食品处理(农业) 电磁生物效应(医疗卫生) 超强紫外光源及节能光源(工业) 燃烧点火、高效燃烧(能源) A plasma focus device is used to produce Extreme Ultra-Violet for lithography Xeon gas at 0.1-5.0 mbar 6.5-9.1 kV charging voltage 100 J total energy 2 Hz operating rate 57 kA discharge current at 100 J water disinfection UV EUV 应用前景: 1、材料表面改性 2、材料固化 3、污水净化 4、半导体表面
文档评论(0)