2020届高考化学一轮总复习总结专题突破08---化学工艺流程(【命题揭秘】、【核心透析】.docVIP

2020届高考化学一轮总复习专题突破08 ---化学工艺流程 【命题揭秘】 1.难度:难。 2.考查形式:流程图、表格、图象。 3.考查点: (1)陌生的方程式的书写(转化观、守恒观)。 (2)物质的类别和价态(分类观)。 (3)物质的净化除杂(转化观、分类观)。 (4)物质的分离提纯(分类观)。 (5)原料的循环使用(绿色化学、价值观)。 (6)滴定法测定产品纯度、计算产率(转化观、守恒观)。 (7)与基本原理的结合(平衡移动、溶度积等知识结合、平衡观)。 4.关注点:与实际工农业生产相关的重要物质的制备、分离操作、除杂试剂的选择、生产条件的控制、三废处理及能量的综合利用等。 【方法规律】 反应温度控制 1.控制反应温度方法——水浴、油浴、冰水浴等。 2.控制反应温度的目的——如何快速思考?有序思考? (1)控制(加快)反应速率; (2)平衡移动——促进水解、溶解、平衡移动,控制反应方向; (3)考虑物质性质——控制固体的溶解与结晶(如热过滤可以防止某些固体析出); (4)升温,促进溶液中气体的逸出,或者使某些物质达到沸点挥发; (5)升温——副反应是否增多,是否使催化剂活性降低; (6)降温——分离提纯应用,趁热过滤,减少因降温而析出的溶质的量; (7)降温,防止物质高温分解或者挥发,降温或者减压可以减少能源成本,降低对设备的要求。 【核心透析】 核心一　工业流程—— “学术理性”与“社会中心”的集合体 【命题点】 一、工业流程的十个常用关键词 1.浸出:固体加入水或酸(碱)溶解得到离子。 2.酸浸:指在酸溶液中反应使可溶金属离子进入溶液,不溶物通过过滤除去溶解的过程。 3.水洗:水洗通常是为了除去水溶性的杂质。 冷水洗涤:减少洗涤过程中晶体的溶解损失。 有机物洗涤:减少晶体损失,且有利于晶体干燥。 灼烧(煅烧):原料的预处理,不易转化的物质转为容易提取的物质,如海带中提取碘等。 5.酸的作用:溶解、去氧化物(膜)、调节pH促进水解(沉淀)。 6.碱的作用:去油污,去铝片氧化膜,溶解铝、二氧化硅,调节pH促进水解(沉淀)。 7.氧化剂:氧化某物质,转化为易于被除去(沉淀)的离子。 8.控制pH:促进某离子水解,使其沉淀,利于过滤分离。 9.煮沸:促进水解,聚沉后利于过滤分离;除去溶解在溶液中的气体,如氧气。 10.趁热过滤:减少结晶损失;提高纯度。 二、获得产品阶段的常见考查点 1.洗涤(冰水、热水):洗去晶体表面的杂质离子,并减少晶体在洗涤过程中的溶解损耗;乙醇洗涤既可洗去晶体表面的杂质,又可减少晶体溶解的损耗。 2.蒸发时的气体氛围抑制水解:如从溶液中析出FeCl3、AlCl3、MgCl2等溶质时,应在HCl的气流中加热,以防其水解。 3.蒸发浓缩,冷却结晶:如NaCl和K2Cr2O7混合溶液,若将混合溶液加热蒸发后再降温,则析出的固体主要是K2Cr2O7,这样就可分离出大部分K2Cr2O7;同样原理可除去KNO3中的少量NaCl。 4.蒸发结晶、趁热过滤:如NaCl和K2Cr2O7混合溶液,若将混合溶液蒸发一段时间,析出的固体主要是NaCl,同样原理可除去NaCl中的少量KNO3。 【答题技法】 1.化工流程题解题方法: (1)解题策略 解题步骤? 解题策略 首尾呼应、 找出主线 ①对照原料和产品,确定核心反应和核心辅料 ②依核心反应,明确流程主线、支线和除杂任务 分段剖析、明析细节 ③以核心辅助原料为准,把流程划分为原料预处理、核心反应和产品分离提纯三个阶段 ④依箭头指向,分析每一环节中物质流入和流出的意义、控制反应条件的作用,融通对流程的整体分析 ⑤某些暂时琢磨不透的环节,可“跳过去”而“难得糊涂”,如有必要,可“顺藤摸 瓜”或带着问题回头来进行有针对性的分析 由易到难、破解答案 ⑥先易后难:先回答与工艺流程非密切相关的问题,确保易拿的分数先拿,增强答题信心 ⑦变换角度:从基本理论、绿色化学观 点、经济角度、安全生产等多角度答题 ⑧对棘手问题:不忘尝试从题给信息中寻找答案 (2)物质判断:主线主产品,副线副产品,回头为循环。 【题型突破】 题型1 物质制备型流程题 例1.以Cl2、NaOH、(NH2)2CO(尿素)和SO2为原料可制备N2H4·H2O(水合肼)和无水Na2SO3,其主要实验流程如下: 已知:①Cl2+2OH-====ClO-+Cl-+H2O是放热反应。 ②N2H4·H2O沸点约118 ℃,具有强还原性,能与NaClO剧烈反应生成N2。 (1)步骤Ⅰ制备NaClO溶液时,若温度超过40 ℃,Cl2与NaOH溶液反应生成NaClO3和NaCl,其离子方程式为__________;实验中控制温度除用冰水浴外,还需采取的措施是________________。? (2)步骤Ⅱ合成N2H4·H2O的装置