第十章气相沉积.pptVIP

一、概述 二、物理气相沉积（PVD） 三、化学气相沉积（CVD） 特点 优点：离子能量高，膜基界面形成较宽的伪扩散层，膜层附着力强。 缺点：对基板损伤大，基板温度高；设备结构复杂，投资大，操作繁琐。 发展：多弧离子镀技术 * * 第十章 气相沉积技术 主要内容 一、概述 定义 真空，物理、化学，气态分子、原子，沉积， 覆盖层 返回 目的 超硬、耐蚀、耐高温、耐氧化、功能性、装饰性 如：高速钢刀具表面沉积TiN，使用寿命↑ 2～10倍。 分类 主要分两大类：PVD，CVD 辉光放电，弧光放电，电子束，离子束，激光，等离子体等，提供能量高、种类多的离子，电子或中性粒子，加速化学反应过程或物理过程，提高附着力，提高沉积质量。 第十章 气相沉积技术 第十章 气相沉积技术 二、物理气相沉积（PVD） 真空，物理过程，沉积金属、非金属及化合物，薄膜 镀材（靶料）气化——气相运输——沉积成膜 基材：镀前处理——真空排气——烘烤——离子轰 击——沉积——冷却——出炉 工艺过程 镀前处理：工艺表面要求清洁，无任何杂质才能提高结合力。 真空：尽量减少氧含量，减少生成氧化物的量。10 -2 ～10-3Pa 烘烤： ↑基体温度，↑反应所需激活能和增加相互扩散能力 预轰击净化 ：用Ar 离子轰击表面，将吸附气体原子、杂质原子轰掉，露出新鲜表面 物理气相沉积（PVD） 分 类 真空蒸镀：包括电阻加热，电子束加热，激光加热，高频感应加热 离子镀：包括辉光放电离子镀，弧光放电离子镀，感应加热离子镀，活化蒸发离子镀 溅射镀：包括二极溅射，三极溅射，四极溅射，磁控溅射，射频溅射，离子束溅射 特 点 镀膜材料广泛，易氧化、高熔点材料镀， 化合物层 界面清洁，一般都用Ar溅射 致密，结合力好 可沉积各种类型的薄膜 基材温度低≤500℃，变形小 物理气相沉积（PVD） 真空蒸镀 物理气相沉积（PVD） 真空蒸镀 物理气相沉积（PVD） 原理 当PP 饱和蒸发，饱和蒸汽压是温度的函数。 10-3～10-2Pa，将材料加热，使其蒸发，遇到器壁凝固 蒸发源 电阻加热、电子束、激光束 成膜过程 低气压，大电流——蒸发——传输——形核——长大——成膜 装饰性：在塑料上蒸镀铝后染色——塑料金属化 纺织物中的闪亮的彩色丝也使镀铝后变色的塑料丝；包装塑料薄膜上蒸镀铝，装饰和防潮作用，食品、香烟、服装、礼品的包。 光学膜：手表玻璃和手机视窗玻璃，镀铬为银白色，镀金为金色；汽车后视镜、反光镜，镜面发射。 真空蒸镀 物理气相沉积（PVD） 应用 蒸气原子动能低，基材需加热，由于有方向性，结合力低 主要问题 离子镀 物理气相沉积（PVD） 原理 基材与坩埚之间加电压，Ar产生辉光放电，在辉光放电空间形成等离子体，使蒸气原子电离为正离子，在阴极表面被加速。 直流二极型离子镀 离子镀 物理气相沉积（PVD） 离子镀 物理气相沉积（PVD） 应用 特别适合于沉积硬质薄膜，广泛用于刀具、模具（铸模、注塑模、磁粉成型模），抗磨零件。 常用膜系：TiN、ZrN、HfN、TiC、Al2O3等，类金刚石（DLC），TiBi2 被镀基材：高速钢、模具钢、硬质合金钢等 膜厚：2.5～5微米 固体润滑膜：低摩擦系数的MoS2，掺金属的类金刚石膜 溅射镀 物理气相沉积（PVD） 原理 利用离子轰击溅射原子沉积在被镀表面，磁控溅射 特点 a、镀膜层粒子的能量比蒸发镀高1～10eV，比离子镀低，附着力较强，而对基板损伤小 b、靶材可以是纯金属，化合物，可以沉积 c、多靶系统:制作复合膜 溅射镀 物理气相沉积（PVD） 溅射镀 物理气相沉积（PVD） 阳光控制膜 高层建筑外墙广泛采用幕墙玻璃。基本功能是使阳光中可见光的部分通过，而红外线和远红外线的部分反射。可见光部分对室内采光是必要的，红外线部分的热能辐射能使室内温度升高。在有中央空调的高层建筑，采用阳光控制膜玻璃，可以让空调能耗至少节约1/3以上，色调鲜艳，有美化建筑的作用。 阳光控制膜一般三层：第一层是化合物膜层（SnO2、TiN），由于膜厚不同，显示不同颜色；第二层：金属薄膜层（Cr、Cu、Ti、Ag、不锈钢）调整透光率和反射率；第三层：保护层（TiO2），防止膜层在环境条件下的变质和划伤。 液晶显示器：ITO（氧化铟锡）透明导电膜玻璃是液晶显示器的基础材料。 应用 返回 化学气相沉积（CVD） 第十章 气相沉积技术 在一定温度下，混合气体与基体的表面相互作用，使混合气体中的某些成分分解，在基体上形成金属或化合物的薄膜或镀层。 原理 一般过程 以形成TiN的工艺过程为例 化学气相沉积（CVD） 第十章 气相沉积技术 初始气源(源物质)、加热反