中科大 Materials Studio 培训教11(包你学会)请将这一系列全看完,一定有收获.pptVIP

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  • 2019-09-16 发布于江西
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中科大 Materials Studio 培训教11(包你学会)请将这一系列全看完,一定有收获.ppt

针对仪器相关的精修 选上零点优化 对C2重做优化 练习指标化及精修过程 无机物的精修 输入ak100的结构和衍射图 Reflex powder refine?Setup?Number of cycles = 2 Reflex type?Rietveld 练习精修操作,改变精修方案重复精修 Rietveld精修中的结构自由度 可以删除所定义的group Tips for successful refinement 经常保存你用于精修的参数。 如果精修结果很差,请确认选择了正确的衍射波长和精修数据(Exp. Data). 不同的参数组合有可能得到近似的精修结果。特别是有关峰型和峰宽的参数。因此结果不具有唯一性。改变精修的初始参数,有可能得到更低的Rwp. Rwp 的值不具有绝对意义. 如果只需确定晶格常数(lattice)和峰型(profile),Pawley精修相对简单. 通常情况下,背底的精修可以用缺省值. 一般的,建议同时精修峰型(profile)和晶格常数(lattice),有时候精修晶格常数前须精修line shift。 晶格常数和line shift corrections 对峰位置的影响方式类似,所以不建议同时精修两者。 如果起始尝试的晶格产生的衍射与实验图相差很远,则晶格常数或零点需要比较大的改动,但这只是在模拟峰型与实验峰型相近的时候可行。如果上述方法精修失败,可以考虑增加W,直到峰型相近,然后再选择U, V, W进行精修。 如果实验图的峰非常锐(比如同步辐射上得到的衍射谱),减小峰宽参数的初始值是比较有效的方法,前提是晶格常数已经知道得比较准确。 样品展宽(尺寸和应变)和仪器展宽对峰宽的影响相似,所以不建议同时精修两者,否则结果会难预料。 要避免仪器展宽的影响,可以设U=V=0, W很小(比如10-6)。 如果精修过程中参数没什么变化,可以尝试改变初始值再作精修,如果回到原来的值,就可以认为是比较合适的参数。 操作:任选一张衍射图,进行指标化,并精修 * 需要注意的是,对于电子和中子衍射,消光规律往往会不起作用,主要是因为原子对电子的散射很强,从而会有二次衍射。 * Polarization: Specifies the fraction of the incident X-ray beam polarized in the direction perpendicular to the plane of the incident and diffracted beams. Default = 0.5 (except for synchrotron radiation). Peak position errors can result from an incorrect zero point or from errors in the placement or transparency of the sample. You can reduce these errors by allowing the 2θ angles of the simulated pattern to be shifted. Depending on the geometry settings used, the corrected angles are calculated from the uncorrected values via the relations * Peak position errors can result from an incorrect zero point or from errors in the placement or transparency of the sample. * 注意U,V,W的取值,在后面refine的时候需要考虑 * The number of crystallites that must be oriented correctly to produce a reflection in a given direction is not random. Therefore, the intensity of some Bragg reflections is enhanced, whereas that of others is reduced. To model preferred orientation effects, the intensities of individual reflections are multiplied with a factor Pk which depends on the direction of the reflecti

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