物理气相沉积.docVIP

PAGE PAGE 1 第二章 物理气相沉积 一、物理气相淀积（Physical Vapor Deposition, PVD）的第一类 1、电阻热蒸发（thermal vaporization） 蒸发材料在真空室中被加热时，其原子或分子就会从表面逸出，这种现象叫热蒸发。 A、饱和蒸气压PV 在一定温度下，真空室中蒸发材料的蒸汽在与固体或液体平衡过程中所表现出的压力称为该温度下的饱和蒸汽压。 symbol 68 \f Symbol \s 12H：mol汽化热，T：绝对温度。 VG、VL：分别为汽相和液相mol体积。 R：气体普适常数 下图给出了以lgPV和lgT为坐标而绘制的各种元素的饱和蒸汽压曲线。 图2-1 某些元素的平衡蒸气压 饱和蒸汽压随着温度升高而迅速增加。由上图1曲线知， a. 达到正常薄膜蒸发速率所需的温度，即PV=1Pa时温度； b. 蒸发速率随温度变化的敏感性； c. 蒸发形式：蒸发温度高于熔点，蒸发状态是熔化的，否则是升华。 下表是几种介质材料的蒸汽压与温度的关系 材 料 到达下列蒸汽压的温度 熔 点 （symbol 176 \f Symbol \s 12C） 10-5 (Torr) 10-4 10-3 10-2 10-1 1 760 Al2O3 MgO ZrO SiO2 ZnS 1050 1040 870 1150 1130 925 1280 1260 1430 980 1440 1410 1620 1220 1050 1640 1600 1820 1380 1120 1860 1800 2050 1830 1220 3000 2900 3600 2227 2034 2672 2710 1710 1850 B、蒸发粒子的速度和能量 平均速度105cm/s， C、蒸发速率和淀积速率 （个/米2·秒） dN：蒸发粒子数，symbol 97 \f Symbol \s 12 e：蒸发系数，A：面积 PV：饱和蒸汽压；Ph：液体静压，m：原子量， K：玻耳兹曼常数。 设symbol 97 \f Symbol \s 12 e=1， Ph=0 质量蒸发速率： （千克/米2·秒） 沉积速率： （米/秒） D、几种电阻加热法 蒸发源形状 应 用 丝 状 U型 点源蒸发的场合。 旋螺形 用于湿润丝状材料，如Al。 篮形 蒸发升华的或不湿润的粒状或丝状材料，如Cr以及Ag和Cu，熔融的湿润金属会造成电短路。 箔 状 用于球形夹具镀单层MgF2，高温下不变形。 舟 装料多，对粉料、块料、湿润的和不湿润的材料均能适用，广泛用于镀多层膜。 加盖舟 防止材料喷溅，提高蒸汽流的稳定性，用于镀SiO和ZnS等。 圆筒形 蒸汽发射有良好的方向性，蒸发特殊膜厚分布的薄膜。 Jacques形 容易保存热量，热效率高。 辐射源 坩埚+辐射丝 用Al2O3、BeO、BN或TiB2作坩埚，防止坩埚与材料反应，防止材料分解和喷溅，可用于ZnS、SiO、MgF2和Na3AlF6等。 “榴弹炮” 容量大，分解小，用于红外镀ZnS等。 烟筒源 防止材料喷溅，均匀地以分子态蒸发；容量大，分解小，特别适用于红外镀SiO，ZnS等。 闪光蒸发 防止材料分馏，特别适用于合金材料。 石墨源 用于蒸发锗、银和钽等，可减小反应。 2、电子束加热法 电子的动能： 电子束的能量： W=nsymbol 215 \f Symbol \s 12esymbol 215 \f Symbol \s 12U=IU 热量： Q=0.24Wt A、直式电子枪 图2-2 直枪（皮尔斯枪）结构示意图 B、电磁偏转式电子枪： 环枪（电偏转） e形枪（磁偏转） 图2-3 环枪剖面图 图2-4 e枪结构示意图 3、激光蒸发 激光作为蒸发材料的一种热源。高能量的激光束透过真空室窗口，对蒸发材料进行加热，通过聚焦可使激光束功率密度提高到106w/cm2以上。 激光：红宝石激光器、钕玻璃激光器 钇铝石榴石激光，巨脉冲 CO2激光器：连续可调，大功率。 激光器在局部产生很高功率，物质吸收的能量。 EA（吸收）= EI（入射）symbol 150 \f Times New Roman \s 12ET（透射）symbol 150 \f Times New Roman \s 12ER（反射）symbol 150 \f Times New Roman \s 12ES（散射） 透射、反射、散射尽量小，损失小。 优点：可蒸发高熔点材料，非接触加热，热源在室外，无污染，简化真空室，适宜于超高真空下制取纯洁薄膜，较高蒸发速率。 缺点：费用费，并非所有材料均能适用。 图2-5 激光蒸发装置示意图 4、反应蒸发 图2-6 反应蒸发装置示意图 在一定的反应气氛中