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第27 卷第8 期 光 子 学 报 Vo1. 27 No. 8
1998年 8 月 ACTA PHOT ONICA SINICA August 1998
方形单元衍射光学阵列器件
实现近圆形均匀焦斑
谭峭峰 严瑛白 金国藩 邬敏贤
( 清华大学精 测试技术及仪器国家重点实验室, 北京 100084)
本文以方形激光输入、圆形均匀焦斑输出为例, 分析 较了整体式和阵列式衍射光学
器件获取圆形均匀焦斑的能力通过在阵列式器件方形单元间附加线性相移来改变各子焦斑
的相互位置、重叠区域, 从而逼近于 一定直径的近圆形均匀焦斑 该方法将二维问题转化为一
维, 减少计算量采用基于爬山法与模拟退火法相结合的混合算法设计相位分布结果表明
了该方法的有效性, 并具有获得任意形状均匀焦斑的灵活性
近圆形均匀焦斑; 衍射光学阵列器件; 混合优化算法
0
在许多应用场合, 对激光光束焦斑的光强分布及形状有特殊要求, 例如在激光加工、激光核聚变中,
要求激光焦斑光强是一种平顶、陡边、无旁瓣分布, 并要求焦斑呈圆形、方形或其他任意形状
1 2,3
利用随机相位板( RPP) 、相位片( KPP) 等衍射光学器件可实现上述功能这类衍射光学器件可
设计为整体式或阵列式阵列式器件由于抗入射光波畸变、抗加工误差等方面优于整体式, 且在获取任
意形状的均匀焦斑方面表现出极大的灵活性在输入方形激光, 要求输出圆形均匀焦斑时, 考虑整体式
器件, 需采用二维设计, 计算量太大, 而且效果不很理想采用阵列式器件, 先设计方形子单元的相位分
布, 获得均匀子焦斑, 再通过子单元间附加线性相移来改变各子焦斑的相互位置和重叠区域, 可得到一
定直径的近圆形均匀焦斑该方法将二维设计简化为一维, 大大减少了计算量
4 5, 6
整体式和阵列式衍射光学器件相位分布设计均可利用 G S 算法、杨顾算法 、模拟退火算法 、遗
7
传算法 等实现为充分利用各算法本身的优点, 避免其缺点, 可采用混合算法来进行相位设计本文
利用爬山法与模拟退火算法相结合, 相位随机初始化来获取满足焦斑均匀化的相位分布
1
对于衍射光学器件, 其透过率函数可写为
T (x, y) = exp( i (x, y) ) (1)
式中 (x, y) 为器件相位分布
设输入光场为均匀分布, 根据基尔霍夫衍射理论, 阵列器件的远场分布可表示为
E (x , y ,f ) = CF( T(x, y)) |f = x/ f ,f = y/ f (2)
x y
式中C 为常数, 为入射激光波长,f 为傅氏变换透镜焦距
忽略常数 C, 其远场光强分布为
I (x , y,f ) = | F(exp( i (x, y)) | 2 (3)
8
计算采用基于爬山法与模拟退火法相结合的混合算法, 充分利用爬山法的强局部寻优能力和模拟
国家高技术863 416 专题项目和国家自然科学基金资助项目
收稿日期: 1998 04 13
光 子 学 报 27 卷
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退火法的全局优化潜力为保证焦斑为圆形分布, 在相位扰动时, 所加值为圆对称的设计参数为: 傅
氏变换透镜焦距f = 600mm, 器件边长 a= 50mm, 入射激光波长 = 1053m, 圆形焦斑直径 d=
250m采样点数N
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