机器分光分析-物性分子工学专攻-筑波大学.pdf

機器分光分析 表面分析・光電子分光分析： XPS, AES, UPS, XES, XAS  2017年5月8 日 筑波大学数理物質系物質工学域 近藤剛弘 スペクトロスコピーと計測 スペクトロスコピー：物理的観測量の強度を周波数、エネルギー、時間などの関数 として示すことで、対象物の定性・定量あるいは物性を調べる科学的手法 スペクトル：電磁波（光）をプリズムや回折格子といった分光器を通すことにより得ら れる、電磁波の波長（エネルギー）ごとの強度の分布を（分光）スペクトルという（逆 に言うと横軸がエネルギー・波長・波数などでないものはスペクトルと呼ばない） 刺激 応答 プローブ 信号 ・電子 ・2次電子 ・イオン ・イオン ・光子 ・光子 ・分子（原子） 表面 ・分子（原子） ・中性子 測定対象物質 ・中性子 ・電場 ・トンネル電流 ・磁場 - ・電場 + ・熱 ・磁場 ・力 ・力 講義内容 １．光電子分光の概要と原理 ２．XPS装置の原理と構造 X線源・分析器・検出器・仕事関数の取扱 ３．XPS は表面分析 平均自由行程・脱出深さ ４．XPSスペクトルに含まれる情報 定性分析・定量分析・状態分析（オージェ電子・スピン軌道 相互作用・サテライト・分解能・化学シフト（最先端分析））・ 関連測定法（UPS ・XES ・XAS）・フェルミ準位近傍・深さ分析 １．Ｘ線光電子分光（X-ray Photoelectron Spectroscopy）の概要 エネルギーバンド，状態密度がそのままスペクトルとして出てくる XPSスペクトル X線を固体表面に照射し表 分析器 面から放出される光電子の エネルギーを分析する手法 X線 DOSを XPS装置のX線源は 光電子 反映 AlK:1486.6 eV(0.8eV) MgkK:1253.6 eV(0.7eV) 括弧内は自然幅 試料 ポイント（１） 光電効果 エネルギー保存則 光電子の運動 入射Ｘ線の 試料の